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TFT-LCD中隔垫物密度与Push Mura和低温气泡的关系

程石 , 王涛 , 张敏 , 张铁军 , 史华威 , 杨国波

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20112605.0604

研究了隔垫物密度对Push Mura和低温气泡的影响.实验表明,通过增加隔垫物密度,能提高液晶面板的抗压强度,降低Push Mura发生率.但是,隔垫物密度过高会引起低温气泡发生.当隔垫物密度控制在适当范围内时,既能大大改善Push Mura,又不会发生低温气泡,且不影响产品的光学特性.

关键词: LCD , 不良改善 , 隔垫物

垂直线不良分析与改善

张光明 , 白金超 , 曲泓铭 , 张益存 , 于凯

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20173205.0352

针对栅极绝缘层和栅极引线接触处形成过孔倒角造成的一种垂直线不良进行分析和改善.研究气相沉积、干法刻蚀和磁控溅射对过孔倒角的影响,通过扫描电子显微镜对过孔形貌进行表征,并用成盒检测设备检测不良发生情况.实验结果表明:通过过孔刻蚀功率、气压、气体流量的变更可以消除倒角现象,垂直线不良由1.4%降为0.7%.

关键词: 垂直线不良 , 倒角 , 过孔

残影不良分析及改善对策研究

艾雨 , 蒋学兵

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153004.0566

通过对大量残影不良样品进行分析,找到了残影不良产生的原因,并基于分析结果设计了改善残影的实验.通过分析发现:残影不良产生的原因是彩膜侧像素与黑矩阵之间的段差过大,在摩擦工程时段差过大区域形成了摩擦弱区,摩擦弱区内的液晶分子配向较弱,导致不良产生.为降低残影不良进行实验,结果显示:在彩膜侧加覆盖层可以有效降低残影不良的发生率,但不适用于量产;通过采用高预倾角的配向膜材料,同时控制配向膜工程到摩擦工程的时间,可使残影不良发生率由28.2%降低至0.2%,为企业的稳定高效生产奠定了基础.

关键词: 残影 , 扭曲向列型 , 预倾角 , 面板

TFT-LCD Touch Mura不良的研究和改善

齐鹏 , 施园 , 刘子源

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132802.0204

Touch Mura在整个TFT-LCD制作流程中非常容易发生,并且严重影响产品性能.文章主要研究了液晶量、Sub PS设计、PS段差设计及工艺参数Total pitch对Touch Mura的影响.实验结果表明液晶量的增加能够补偿敲击偏移,减轻Touch Mura不良;Sub PS的Z字形设计由于阻挡效应能够有效减轻Touch Mura;Main PS和Sub PS的段差越大,Touch Mura margin越小;工艺参数Total Pitch越接近设计值,Touch Mura风险越小.所以在设计过程中优化液晶量和Main-Sub PS段差设计及Sub PS设计能够有效减低Touch Mura风险,此外,生产过程中对工艺参数Total pitch的管控也至关重要.

关键词: Touch Mura , 液晶量 , 柱状隔垫物 , Total Pitch

TFT-LCD残影不良的研究与改善

范恒亮 , 汤展峰 , 刘利萍 , 李静 , 黄静 , 刘岩龙

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163103.0270

影像残留是TFT-LCD,特别是TN型产品常见的不良,对产品良率影响很大.本文从产品设计、工艺参数、工艺管控3个方面对残影进行分析.发现产品设计时Data线两侧段差过大,是导致残影发生的主要原因,通过增加配向膜厚度和摩擦强度值可以有效降低残影,实验得出配向膜膜厚高于110 nm,摩擦强度高于5.5N,m时无残影发生.通过控制配向膜工程与摩擦工程间的延迟时间在5h,摩擦工程与对盒工程间的延迟时间在10 h,并且严格管控ITO偏移量可以有效减少Panel内部电场,从而降低残影.通过以上措施,对于15.6HD产品,良率提升了10%,为企业高效生产奠定基础.

关键词: 残影 , 扭曲向列型 , 配向弱区 , 内部电场

高PPI ADS产品白Mura不良产生原理及改善研究

桑胜光 , 车晓盼 , 王嘉黎 , 郭红光 , 井杨坤 , 李泽 , 游伟

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163105.0435

现有传统TFT-LCD生产工艺中,Rubbing工艺在生产高PPI ADS产品的过程中,在改善Rubbing Mura不良时会使用H Cloth,但使用H Cloth Glass在经过Rubbing后ODF Rubbing Cleaner清洗时会出现白Mura不良.经过对白Mura不良Panel的微观解析,并结合H Cloth性质分析出白Mura不良是由于H Cloth自身的聚醋酸脂颗粒经过Rub-bing Cleaner聚集造成的.从Rubbing Cleaner清洗时改变Glass表面性质(醇类可以有效改变界面性质)入手,通过使用IPA对Glass进行清洗以改变聚醋酸脂疏水性,使得聚醋酸脂颗粒更易被Rubbing Cleaner清洗掉来改善白Mura不良,并结合生产实际定期对IPA进行更换以保持IPA浓度处于一个稳定的区间,使得高PPI ADS产品白Mura不良发生率由改善前的3.42%降低至改善后的0.11%,白Mura不良得到非常有效的改善.

关键词: 高PPI , 白Mura不良 , 聚醋酸脂 , 疏水性

TFT-LCD制程中Zara点状不良的产生与改善研究

王海成 , 董天松 , 郑英花 , 刘华

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132805.0707

研究了TFT-LCD制造工艺中产生Zara Particle的影响因素.采用Mac/Mic,SEM,EDX等检测设备,对Zara点状不良进行了大量的实验测试、数据分析和理论研究工作,对其产生的原因提出了两种不同的理论观点.通过调整聚酰亚胺薄膜厚度和摩擦工艺参数等一系列措施,产品质量得到了很大的提高,Zara点状不良改善前的21.2%降低到1.69%,大大提高了产品良率,为以后相关问题的研究奠定了一些理论基础.

关键词: TFT-LCD , Zara点状不良 , 聚酰亚胺 , 摩擦

TFT-LCD边角漏光不良机理分析及改善研究

见帅敏 , 解洋 , 夏高飞 , 孙禄标 , 孟维欣 , 申澈 , 郭建

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20173206.0455

目前,薄膜晶体管型液晶显示器(Thin-Film Technology Liquid Crystal Display, TFT-LCD)已成为显示领域的主流产品,而液晶面板是TFT-LCD的一个重要组成部分.LCD边缘漏光会导致画面失真,影响可视效果,造成画面显示品质下降、良率降低,因此改善边缘漏光成为急待解决的问题.本文研究了液晶与PI膜层取向异常对边角漏光的影响、LC Pattern设计对边角漏光的影响、Si-Ball型号对边角漏光的影响等,结果证明LC Pattern设计对边角漏光具有较好的改善效果,Pattern拉伸可改善边角漏光但更易造成液晶穿刺现象,小滴优化不仅能改善边角漏光而且也能防止液晶穿刺.另外小型Si-Ball对边角漏光改善效果最优,同时从信赖性验证等方面可以排除较小Si-Ball,限定出Si-Ball选择范围.

关键词: TFT-LCD , 边角漏光 , LCPattern , Si-Ball

退除不良镀层的方法(二)

程沪生

电镀与涂饰

介绍了锌合金件上不良铜镀层的退除法,不良金镀层、锡镀层、铅锡合金镀层,以及钢铁上其他不良镀层的退除法.

关键词: , , 铅锡合金 , 不良镀层 , 退除

不良镀层的退除方法(一)

程沪生

电镀与涂饰

介绍了几种退除不良镀层的方法,包括钢铁件上不良铜及铜合金镀层、镍层的化学和电解退除法,铜及铜合金件上不良镍层的化学和电解退除法,不良镍铁合金镀层的退除法.

关键词: , , 镍铁合金 , , , 不良镀层 , 化学退除 , 电解退除

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