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多晶柱状Cu膜的表面粗化与织构

杨吉军 , 马飞 , 徐可为

金属学报

用磁控溅射工艺分别在Si和Al2O3衬底上沉积两种不同织构组分的多晶柱状Cu膜, 基于动力学标度方法表征两种薄膜的表面粗化特征. 结果表明, Cu(111)取向晶粒组分多的薄膜的生长指数较大、表面粗化速率较快. 对于较低温度下沉积的多晶柱状薄膜, 基于其晶粒几何形态和弱化的晶界限制的特点, 提出了一种表面粗化机制, 认为薄膜的表面粗化主要依赖于其晶粒表面的粗化过程, 而薄膜织构决定了薄膜表面粗化速率.

关键词: Cu膜 , surface roughening , texture , dynamic scaling

表面粗化对氧化锆精密陶瓷化学镀镍的影响

袁军平 , 林伟河 , 陆丽仪 , 陈德东

腐蚀与防护 doi:10.11973/fsyfh-201704005

对装饰用氧化锆精密陶瓷基板进行了表面粗化处理及化学镀镍工艺试验,研究了HF含量和浸泡时间对陶瓷表面粗化效果的影响,以及表面粗糙度与镀镍层形貌、结合强度之间的关系.结果表明:氧化锆精密陶瓷的表面粗糙度随着HF含量的增加和浸泡时间的延长而增加,且呈现浸泡初期和高HF含量时粗化速率更快的特点;随着表面粗糙度的增加,化学镀镍逐渐转向以胞状生长为主的方式形成沉积层,镀镍层的结合强度也不断提高.

关键词: 氧化锆精密陶瓷 , 化学镀镍 , 表面粗化 , 结合强度

PVD法制备6.5%Si高硅钢过程合金磁性能演化机理研究

马天国 , 李辉 , 田广科 , 毕晓昉

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.04.040

PVD法制备 Fe-6.5%Si(质量分数,下同)高硅钢过程基片预处理工艺以及 Si 渗入对合金的软磁性能均有显著影响。采用磁损耗分离的方法剖析铁硅合金磁性变化的内在机理。采用四探针方法测试合金的电阻率;采用基于热分析仪(DSC)配置永磁场技术测量热重(TG)曲线确定合金的居里温度;采用振动样品磁强计(VSM)测定了材料的饱和质量磁矩;采用直流测试装置和硅钢测试仪测试合金的直流交流软磁性能。PVD法制备6.5%Si高硅钢最大磁导率达到16400,相比于初始态3%低硅钢基片,铁损值降低40%~50%。

关键词: 6 .5%Si高硅钢 , 磁控溅射 , 表面粗化 , 软磁性能 , 演化机理

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