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磨料射流技术用于石油管道表面预处理

牛继磊 , 徐依吉 , 李根生

腐蚀学报(英文)

从工作原理、工艺流程、技术参数、装置组成等方面 介绍已应用于胜利油田生产的磨料射流油管表面预处理生产线,应用证明:它具有处理质量好、速度快、无污染、操作简便等优点,是进行油管表面预处理的全新工艺.

关键词: 磨料射流 , tube , surface pretreatment , equipment

衬底表面预处理对金刚石薄膜形核及长大的影响

张贵锋 , 郑修麟

材料研究学报

用燃烧火焰法在TC4 Ti 合金和单晶Si(001)面上沉积了金刚石薄膜。对合成的膜进行了扫描电镜、激光喇曼光谱分析。结果表明,金刚石薄膜的结构和形貌强烈取决于沉积温度、O_2/C_2H_2流量比等工艺参数。研究了衬底表面预处理对金刚石薄膜形核及长大的影响,并对表面预处理影响形核的原因进行了初步探讨。

关键词: 燃烧火焰法 , diamond film , surface pretreatment , nucleation density

预处理条件对摩托车尾气催化剂金属载体负载活性涂层的影响

张振强 , 桓源峰 , 贺小昆 , 赵云昆

贵金属 doi:10.3969/j.issn.1004-0676.2009.01.006

随着冷启动排放问题的日益严重,金属载体催化剂除了应用于摩托车和柴油机尾气催化燃烧外,不久将用于密耦型催化剂.然而,金属载体与活性涂层之间低的粘结力是制约金属载体催化剂发展的瓶颈.该文报导了一个3步工序:碱蚀预处理→950 ℃氧化→浸渍涂层并焙烧.超声波振动和高温急冷后超声波振动分别用于测定活性涂层的脱落率.结果表明,整体型金属载体起始负载达到10%,在经超声波振动后,脱落率为1.4%.与此同时,还发现经碱蚀后的FeCrAl合金表面存在许多大小不一的"坑".这些"坑"为后续的活性涂层起到钉扎作用.XRD分析可知,Fe-Cr固熔体在氧化层下面富集.SEM图象表明,煅烧后致密的氧化铝层在活性涂层和FeCrAl合金的界面形成,这极大地有益于增强活性γ-Al2O3涂层在FeCrAl合金箔材上的粘结力.

关键词: 物理化学 , 金属载体 , 表面预处理 , 涂层 , 拟薄水铝石 , 结合性能

Al_2O_3陶瓷制品化学镀铜与表面处理工艺

王宏

电镀与涂饰

提供了一种Al_2O_3陶瓷制品化学镀铜的工艺,其溶液由组分A(含酒石酸钾35~45 g/L、氢氧化钠7~9 g/L和碳酸钠3~4 g/L)和组分B(含硫酸铜7~14g/L、氯化镍1~2 g/L和甲醛15~20g/L)按体积比3:1混合而成.给出了表面预处理(包括除油、粗化、敏化、活化、还原等工序)的配方及工艺条件.介绍了市场需求量较大的镀铜后五色系实用着色工艺配方及参数.Al_2O_3陶瓷制品应用该工艺配方处理后,所得镀层外观平整、光亮,在获得优雅外观的同时,大大延长了使用寿命.这些技术均已在生产实践中获得成功应用,具有广阔的发展前景.

关键词: 氧化铝陶瓷制品 , 表面预处理 , 化学镀铜 , 电镀 , 着色

表面预处理对SiO2/Si结构上APCVD生长SiC薄膜的影响

贾护军 , 杨银堂 , 柴常春 , 李跃进

人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2006.03.018

采用SiH4-C3H8-H2气体反应体系在SiO2/Si复合衬底上进行了SiC薄膜的APCVD生长.实验结果表明,H2表面预处理温度过高或时间过长会导致衬底表面SiO2层熔化再结晶或被腐蚀掉.通过"先硅化再碳化"的工艺方法可以较好地解决SiO2/Si复合衬底上SiC成核困难以及粘附性差的问题,同时还可以有效抑制SiO2中的O原子向SiC生长膜扩散.选择预处理温度和薄膜生长温度为1180℃、H2预处理、SiH4硅化和C3H8碳化时间均为30s的最佳生长条件时,可以得到〈111〉晶向择优生长的多晶3C-SiC外延薄膜,薄膜生长速率约为2.0~2.5nm/min.

关键词: 碳化硅薄膜 , 常压化学气相淀积 , 表面预处理 , 硅化 , 碳化

合成CVD金刚石涂层用硬质合金基体预处理工艺优化研究

许晨阳 , 解亚娟 , 邓福铭 , 陈立 , 雷青

人工晶体学报

以CH3COCH3和H2为反应气源,采用热丝CVD法在经过两步法和三步法预处理的YG6硬质合金(WC-6wt%Co)基体上沉积金刚石涂层.利用扫描电子显微镜和能谱仪分析检测预处理后的YG6基体的表面形貌和钴含量,通过对比三步法与两步法的预处理结果确定三步法最佳工艺.利用扫描电镜、X射线衍射仪和硬度计检测所得金刚石涂层的表面形貌、结晶性和膜基结合性.结果表明:三步法最佳工艺为先采用酸溶液腐蚀20 s,然后采用碱溶液腐蚀20 min,最后继续用酸溶液腐蚀3 min.三步法预处理后的YG6基体获得的金刚石薄膜生长更加均匀致密,晶粒取向更高,膜基结合性能更好.

关键词: 化学气相沉积 , 金刚石涂层 , 表面预处理 , 工艺优化 , 硬质合金基体

电化学刻蚀对钛基IrO2-Ta2O5电极性能的影响

张苓 , 冯庆 , 蔡继东 , 张玉萍 , 贺斌

钛工业进展

采用电化学刻蚀处理钛基材,再通过涂覆、烧结的方法制备出钛基IrO2-Ta2 O5电极.与喷砂处理相比,经电化学刻蚀处理后,钛基材表面的凹坑分布更均匀,涂覆涂层后的钛基IrO2-Ta2 O5电极的表面凹坑深浅均匀,呈规则分布.强化寿命测试结果表明,经电化学刻蚀处理后制备的钛电极强化寿命平均值达到20 d,比喷砂处理后制备的电极寿命(16 d)显著提高20%;电化学刻蚀处理后制成的钛电极析氧电位为1.62~1.73 V,明显低于喷砂后制备的钛电极(1.92 V),电解时可降低电耗.

关键词: 钛基IrO2-Ta2O5电极 , 电化学刻蚀 , 表面预处理 , 强化寿命 , 析氧电位

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