熊礼威
,
彭环洋
,
汪建华
,
崔晓慧
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龚国华
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.03.012
目的：研究不同甲烷体积分数对纳米金刚石( NCD)薄膜生长的影响,实现较小晶粒尺寸、高平整度的NCD薄膜的制备。方法采用微波等离子体增强化学气相沉积的方法制备NCD薄膜,以CH4/H2为气源,在生长阶段控制其他条件不变的前提下,探讨不同甲烷体积分数对NCD晶粒尺寸、表面形貌以及表面粗糙度的影响。采用SEM、XRD等观测NCD薄膜的表面形貌和晶粒尺寸大小,并利用Raman对NCD薄膜的不同散射峰进行分析。结果随着甲烷体积分数的增加,薄膜晶粒尺寸有减小的趋势。甲烷体积分数较低时,晶形比较完整,但致密度较小；甲烷体积分数较高时,晶形杂乱无章,但致密度较好。当甲烷体积分数为9%时NCD薄膜平均粒径达到最小,为21.3 nm,表面粗糙度较好,但非晶金刚石成分开始大量生成,NCD薄膜质量开始变差；当甲烷体积分数为8%时其形貌最好,且此时最小表面粗糙度小于20 nm。通过Raman分析可知NCD薄膜中出现了硅峰和石墨烯特征峰。结论甲烷体积分数对NCD薄膜形貌有较大影响,甲烷体积分数为8%时是表面平整度由较差变好再逐渐变差的分界点,且平均晶粒尺寸为23.6 nm,薄膜表面具有较好的平整度。
关键词:
纳米金刚石薄膜
,
MPCVD
,
晶粒尺寸
,
表面粗糙度
,
甲烷体积分数
,
表面形貌
陈昶
,
张伟
,
陈建
,
刘春海
,
曾宪光
,
杨瑞嵩
,
王龙
,
蒲国
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.04.025
利用磁控溅射法在阳极氧化铝(AAO)模板上制备了 Ni 亚微米柱阵列,研究了不同退火温度对 Ni 亚微米柱阵列结构稳定性的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X 射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等对不同退火温度下制备的Ni亚微米柱阵列的晶体结构以及表面形貌进行了表征。结果表明,磁控溅射法制备的Ni亚微米柱阵列具有多晶的面心立方结构,排列规则、粗细均匀,其直径约为400 nm。经400℃退火后,开始形成Al1．1 Ni0．9和AlNi金属间化合物。500℃退火后,出现空心Ni亚微米柱,且Ni亚微米柱体积膨胀变粗。600℃退火后,Ni亚微米柱部分脱落。
关键词:
AAO 模板
,
磁控溅射
,
Ni亚微米柱阵列
,
晶体结构
,
表面形貌
张健
,
陈国宏
,
王若民
,
缪春辉
,
郑治祥
,
汤文明
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.05.038
二次浸Zn是Al材电镀的前处理工艺.Al材碱蚀不当,将对浸Zn乃至后续的电镀过程产生十分不利的影响.研究了在不同浓度NaOH 碱蚀液中碱蚀粗化后的纯Al基材及随后二次浸Zn层的表面形貌,并考察了Al材表面电镀Cu层的质量.结果表明,当碱蚀液浓度20 g/L,浸渍时间1 min时,Al基材表面形成大而深的腐蚀坑,Al基材晶界处腐蚀尤其严重,浸 Zn 层难以将这些腐蚀坑覆盖.而当碱蚀液浓度5 g/L 时,在相同的浸渍时间下,Al基材表面粗糙度适中,无大而深的腐蚀坑,浸Zn层覆盖率高达95％以上,其表面电镀 Cu 层的质量良好.
关键词:
纯铝
,
碱蚀液
,
二次浸锌
,
腐蚀机理
,
表面形貌
