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光电化学法研究镍基合金在288℃高温水中生成氧化膜的半导体性质

张胜寒檀玉梁可心

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00270

采用光电化学法研究了Incoloy800HT和Inconel600镍基合金在288℃高温水中形成的氧化膜的半导体性质. 组成镍合金氧化膜的物相为 Ni的氢氧化物或镍铁氧化物、Cr2O3和FexNi1-xCr2O4, 它们的特征带隙宽度分别为2.3, 2.9/3.5和4.1-4.3 eV. 在-400 mV至+400 mV范围内, Incoloy800HT合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n型半导体性质, Inconel600合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n/p型半导体性质, 同时, 在半导体性质从n型转变为p型的临界电压下, 光电化学响应相角发生180o转变.

关键词: 光电化学响应 , Ni-based alloy , oxide film , semiconductor property , high temperature water

TA2纯钛阳极氧化膜的制备和电化学分析

杨艳蓉 , 詹肇麟 , 付天琳 , 王枭 , 于晓华 , 崔昌兴

材料热处理学报

10%H2SO4溶液作为电解液,采用恒电位的方式在纯钛的表面成功制备出阳极氧化膜.采用电化学的方法在3.5%NaCl溶液中研究了低电位下阳极氧化膜的I-t曲线、Tafel极化曲线、电化学阻抗谱以及Mott-Schottky曲线.结果表明:在确定的工艺参数下,可获得色彩丰富、表面平整、光滑的阳极氧化膜.I-t曲线显示氧化膜的形成是动态生长和溶解的过程;Tafel曲线和阻抗谱显示阳极氧化后的TA2纯钛具有更好的耐蚀性,且阳极氧化电压越高,耐蚀性越好;Mott-Schottky显示阳极氧化膜为n型半导体,且施主浓度随电位升高而减小,耐蚀性随之提高.

关键词: TA2纯钛 , 阳极氧化 , 耐蚀性 , 半导体特性

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