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反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO2薄膜的结构与光学性能

李铸国三宅正司

金属学报

采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO2薄膜, 通过X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征. 结果表明, 叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性, 在金属溅射模式和低于 200 ℃的沉积条件下, 制备了高质量的锐钛矿相TiO2薄膜; 该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51 和7.8×10-4.

关键词: TiO2薄膜 , magnetron sputtering , metallic sputtering mode , low-temperature deposition , refractive index

利用光学参量振荡器(OPO)测定KTP晶体折射率温度系数

杨荣国

物理测试

文章提出了一种利用光学参量振荡器Optical Parametric Oscillator(OPO)测定KTP晶体折射率温度系数的实验方法。利用这种方法得到了KTP晶体折射率的温度系数。该方法具有操作简单、测量精度高和测量温度范围广等特点,并可用于其它多种非线性晶体折射率温度系数的测试。该系数对晶体的研究和晶体在非线性作用过程中的位相匹配有实际意义。

关键词: KTP晶体 , refractive index , temperature coefficient , optical parametric oscillator(OPO)

传能光纤表面低折射率光固化涂层的制备

肖健 , 鲁钢 , 冯述娟 , 苏武 , 赵霞 , 徐红 , 刘礼华

表面技术

目的 制备低折射率光固化涂层.方法 以全氟十一烷基丙烯酸酯(FA)、甲基丙烯酸三氟乙酯(TRIFEMA)、四氢呋喃丙烯酸酯GM61P00 (THFA)和聚氨酯丙烯酸酯(PU)为主要组分,考察各组分用量对涂层接触角、吸光度和折射率的影响.结果 在一定的用量范围内,折射率随FA和TRIFEMA用量增加而降低,随THFA和PU用量增加而升高;接触角随FA和TRIFEMA用量增加,先增大,然后保持稳定,随THFA和PU用量增加而减小;吸光度随FA用量增加而增大,随TRIFEMA,THFA和PU用量增加而减小.结论 低折射率光固化涂料的最佳配比为m(FA)∶m(TRIFEMA)∶m(THFA)∶m(PU)=2∶5∶1.25∶1,其涂层折射率为1.387,吸光度为0.0091.

关键词: 光纤涂料 , 折射率 , 吸光度 , 折射率

中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能

王春 , 牟宗信 , 刘冰冰 , 臧海荣 , 牟晓东

材料科学与工程学报

本文采用中频孪生靶非平衡磁控溅射技术在不同氮气流量比例的条件下制备出氮化硅薄膜.利用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、椭偏仪等研究了氮气流量比率对氮化硅薄膜的微观结构、表面形貌、沉积速率、折射率的影响.结果表明:中频孪生非平衡磁控溅射技术制备的薄膜为非晶态氮化硅.随着氮气流量比率的增加,Si-N键红外光谱吸收带向低波数漂移,薄膜的沉积速率降低,表面结构更为光滑致密,氮化硅薄膜的折射率降低.薄膜的硬度和杨氏模量分别达到22和220GPa左右.

关键词: 氮化硅薄膜 , 折射率 , 磁控溅射 , 红外光谱

低损耗大芯径能量光纤涂料的配方设计与应用

宋韬 , 鲁钢 , 陆宇 , 冯述娟 , 苏武 , 赵霞 , 徐红 , 刘礼华

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.05.004

目的:设计低损耗大芯径能量光纤涂料的配方并讨论其应用。方法以乙烯基硅油、巯基硅油、甲基丙烯酸三氟乙酯( TRIFEMA )、全氟十一烷基丙烯酸酯( FA )、氟橡胶、四氢呋喃丙烯酸酯GM61P00(THFA)和聚氨酯丙烯酸酯(PU)为主要组份,设计不同配方的光纤涂料,并考察其折射率、透过率、凝胶含量和光纤损耗等性能,筛选最优配方。结果低损耗大芯径能量光纤涂料的最佳配比为m(乙烯基硅油):m(巯基硅油):m(TRIFEMA)=27:5:1,其涂层的折射率为1.392,透过率为99.23%(波长为850 nm时),制得大芯径能量光纤的抗拉强度为4392 MPa,传输损耗为6.6 dB/km。结论全氟化合物虽然能使涂料的折射率较低,但是其固化时存在缺陷,会导致光纤损耗较大。氟硅涂料具有优良的润湿性能,涂层附着力强,且各项性能指标均符合光纤使用要求。

关键词: 低损耗 , 大芯径能量光纤涂料 , 透过率 , 折射率 , 光纤损耗

折射率可调SiO2薄膜及耐环境性宽频增透膜的制备?

张欣向 , 庄梦云 , 林明月 , 叶龙强 , 江波

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.22.030

通过溶胶-凝胶法制备了折射率连续可调的Si O 2薄膜,并将其应用于制备双层宽频增透膜。以正硅酸乙酯为前驱体,分别以盐酸和氨水为催化剂制备酸催化SiO2溶胶和碱催化 SiO2溶胶;将酸催化和碱催化的Si O 2溶胶按不同比例进行混合制得酸碱混合SiO2溶胶,最后通过浸渍-提拉法在 K9玻璃上制备SiO2薄膜。椭偏仪测试结果表明 SiO2薄膜的折射率在1.18~1.44之间连续可调,折射率随着酸催化SiO2溶胶比例的增加而增加。分别以折射率为1.41和1.18的SiO2薄膜为底层和上层,成功制备出在527和1053 nm处同时高增透的双层宽频增透膜。最后,以六甲基二硅氮烷为修饰剂,通过增透膜表面的有机修饰,提高了宽频增透膜的疏水性和耐环境性。

关键词: 溶胶-凝胶法 , 增透膜 , 折射率 , 疏水性 , 耐环境性

TiO2/SiO2双层减反射膜的制备及其性能研究

白红艳 , 涂洁磊 , 肖祥江 , 付蕊 , 赵沛坤 , 李烨

人工晶体学报

采用真空电子束蒸发法制备TiO2/SiO2双层减反射膜,实现宽波段范围内的低反射率,以满足砷化镓三结太阳电池对入射光的需求.主要研究了基片温度、电子束流和充氧量对TiO2、SiO2单层膜性能(膜层厚度、折射率)的影响.研究过程中,按照三因素两水平的正交实验进行,用分光光度计对TiO2、SiO2薄膜样品的折射率进行测试.实验结果显示,两种氧化物介质膜的折射率均随基片温度和束流的升高而增加,随氧压的升高而降低,工艺参数对TiO2膜性能影响较大.

关键词: TiO2/SiO2 , 减反射膜 , 电子束蒸发 , 折射率

基于系列离子液体的折射率研究

王仲勋 , 陈吉胜 , 谷明信 , 何国田 , 戴鹏飞 , 李明

功能材料

离子液体作为新颖的"软"功能材料已成为目前研究的新热点。折射率的研究对了解离子液体这种新型光学材料的结构性质具有重要意义。对选取的系列离子液体{[Cnmim]BF4(n=6,8,10,12),[Cnmim]PF6(n=8,10,12),[Cnmim]I(n=7,8,10),[Cnmim]Cl(n=10,12,14),[CnPy]BF4(n=9,11,13)等}在空气中的折射率进行了测试和理论分析,结果表明,(1)若阴离子为BF4-和PF6-,离子液体的折射率随阳离子侧链的增长而线性增加;若阴离子为Cl-和I-,离子液体的折射率随离子液体阳离子侧链的增长而线性减小,相关系数R分别是0.98854、0.98004、0.99942、-0.97888、-0.9793;(2)当阳离子一定时,阴离子体积越大,折射率越小,单元素阴离子比多元素阴离子的离子液体折射率要大;(3)离子液体的折射率随温度升高而减小,卤盐离子液体与四氟硼酸盐和六氟磷酸盐离子液体相比对温度变化更敏感。

关键词: 咪唑类离子液体 , 物化性质 , 折射率 , 功能材料 , 光学材料

TiO2/FTO镀膜玻璃色饱和度的数值模拟

朱岳江 , 刘涌 , 宋晨路 , 韩高荣

材料科学与工程学报

本文以具有较高折射率的材料——二氧化钛(TiO2)替代自身折射率较低的材料——SiCOx作为氟掺杂氧化锡(FTO)镀膜玻璃中间层薄膜,通过数值模拟计算的方法主要研究了TiO2/FTO镀膜玻璃的表面色饱和度控制表现,并与传统的SiCOx/FTO镀膜玻璃就色饱和度控制表现进行了对比,结果发现TiO2/FTO镀膜玻璃具有更加优异的表面色饱和度控制表现,适合进行实际应用推广。

关键词: 色饱和度 , TiO2 , FTO镀膜玻璃 , 折射率

椭圆偏振法研究B离子注入LiNbO_3光波导的光学特性

于晓红 , 连洁 , 卢霏 , 宋平 , 高尚

人工晶体学报

用椭圆偏振法研究了2.5 MeV B离子注入后的铌酸锂晶体,建立四层模型,对反射式椭圆偏振测量得出的数据进行反演拟合,得到了波导层厚度及0.3~0.8 μm波段波导层和损伤层的双折射色散曲线,发现低剂量B离子注入铌酸锂形成了折射率下降的位垒,在晶体表面下2.0 μm范围内得到了光波导结构.研究结果为以铌酸锂为基础的光波导器件研发提供了重要信息.

关键词: 光波导 , 椭圆偏振测量 , 离子注入 , 折射率

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