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聚乙烯吡咯烷酮对PbO2电极微结构和性能的影响

杨卫华付芳杨武涛

材料研究学报

采用电沉积法制备不同浓度聚乙烯吡咯烷酮(PVP)改性PbO2电极, 通过SEM、XRD、电化学阻抗谱(EIS)和线性极化(VA)等方法表征其微结构和电化学性能, 研究了PVP对电极电化学性能的影响。结果表明, PVP的包覆和空间位阻作用可抑制晶粒生长速度和团聚作用, 使电极表面晶粒细化均匀, 微结构得以改善; 改性PbO2电极具有更低的电化学反应电阻和更高的析氧电位; 适量的PVP掺杂可有效提高电极的电催化性能, 其中0.4 g ? L-1PVP改性电极的电催化活性最佳。最佳改性PbO2电极显示了良好的耐腐蚀性和电催化稳定性, 使用90 h后其降解率仍能达到81.5%。

关键词: 材料表面与界面 , modified lead dioxide electrode , polyvinylpyrrolidone(PVP) , electrochemical properties

PVP对碳热还原氮化法制备TiN薄膜的影响

魏颖娜 , 卜景龙 , 魏恒勇 , 崔燚 , 于云 , 董占亮

人工晶体学报

采用四氯化钛的无水乙醇溶液为钛源,以聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为成膜助剂及还原助剂,利用碳热还原氮化技术,在N2气氛下经1300℃进行还原氮化5h制备出TiN薄膜.采用XRD和SEM研究了PVP分子量及其用量对TiN薄膜微观结构的影响.结果发现,随着PVP分子量增大,薄膜中TiN晶体沿(111)面择优生长趋势减小,PVP分子量为1300000时薄膜中TiN晶粒尺寸较大,晶界减少.当PVP用量由钛/碳摩尔比为1∶10增加到1∶12时,TiN薄膜裂纹减少,而增至1∶14时,TiN薄膜中气孔增多.TiN薄膜的生长过程为:TiN颗粒状晶核逐渐生长成棒状,然后继续生长形成片状三角形或六边形,最后呈现出三角锥或六棱台形.

关键词: 聚乙烯吡咯烷酮(PVP) , 碳热还原氮化 , TiN薄膜 , 显微结构

添加PVP对阴极等离子电解沉积Al2O3涂层的影响

王鹏 , 邓舜杰 , 何业东 , 刘宸旭 , 张津

材料热处理学报

采用阴极等离子电解沉积(CPED)在镍基高温合金上制备了一层Al2O3涂层.通过测试对比阴极表面在3个不同方向下的电压-电流密度曲线来分析CPED动力学过程.结果表明:在电解液中加入聚乙烯吡咯烷酮(PVP)后,临界起弧电流密度急剧下降,而且阴极表面的朝向对CPED过程的影响也相应的减弱.划痕实验结果表明,随着PVP添加量的增加,涂层的结合力得到明显的提高.通过添加PVP,等离子放电过程可以随机地、均匀地发生在各个阴极表面,因此可以在大面积复杂形状的阴极表面上沉积出均匀的Al2O3涂层.

关键词: 阴极等离子电解沉积 , Al2O3涂层 , 聚乙烯吡咯烷酮(PVP)

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