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非平衡磁控溅射技术制备用于红外减反射的无氢碳膜

徐均琪 , 樊慧庆 , 刘卫国 , 杭凌侠

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.06.010

红外减反射保护膜具有特定的厚度要求,如能进一步减小无氢类金刚石膜(DLC)的光学吸收,就能使其在较大厚度时不过分损失光通量而得以广泛应用.从这点来讲,无氢类金刚石膜是一种极具开发潜力的材料.本文采用非平衡磁控溅射技术(UBMS)制备了无氢类金刚石膜,并研究了其厚度均匀性.研究结果表明:该非平衡磁控溅射装置有能力获得大于φ150 mm的均匀性范围.对DLC膜红外透射谱的分析表明,分别在Si和Ge基底表面单面制备的DLC薄膜,其峰值透射率在波数2983/cm时分别为68.83%和63.05%,这一结果接近无吸收碳材料理论上所能达到的值.同时,在5000到800/cm范围内,未发现明显的吸收峰.这些优良的光学特性表明,采用非平衡磁控溅射技术制备的无氢DLC膜可以作为窗口的红外增透保护膜使用.

关键词: 类金刚石膜(DLC) , 非平衡磁控溅射(UBMS) , 厚度均匀性 , 物理气相沉积(PVD)

管状构件内表面真空镀膜方法研究进展

赵彦辉 , 贾莹 , 于宝海 , 肖金泉

表面技术

综述了国内外真空镀膜方法,包括化学气相沉积与物理气相沉积方法对管状构件内表面镀膜的研究进展,介绍了热化学气相沉积及各种等离子体(包括直流、射频及电子自旋共振等离子体)增强化学气相沉积方法在管状构件内表面镀膜方面的应用,分析了这种方法的优缺点;重点阐述了溅射镀膜方法(包括直流二极(或三极)溅射、磁控溅射及离子束(或激光束)溅射)及电弧离子镀技术在管状构件内表面镀膜时对薄膜种类、沉积速率、薄膜厚度轴向均匀性、膜/基结合力等方面的特点.最后对管状构件内表面各种真空镀膜方法进行了分析对比,指出了存在的问题及今后的发展方向.

关键词: 管状构件 , 内表面 , 物理气相沉积 , 化学气相沉积

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