苏青峰
,
史伟民
,
王林军
,
李东敏
,
夏义本
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2011.00261
超声波作用下, 采用热壁物理气相沉积法在相对较低温度下(<90℃)成功制备了(00l)取向多晶碘化汞膜, 分析了超声工艺对(00l)取向多晶碘化汞膜质量的影响. 采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱仪(Raman)对(00l)取向多晶碘化汞膜进行了表征. 结果表明, 超声波作用下, 相对较低的生长温度能够获得高质量(00l)取向多晶碘化汞膜, 同时超声波工艺不仅能够明显改善多晶碘化汞厚膜的质量而且能提高生长速率.
关键词:
碘化汞膜
,
polycrystalline
,
physical vapor deposition
,
ultrasonicwave
彭笑
,
朱丽慧
,
刘一雄
材料导报
概述了物理气相沉积(PVD)技术制备TiAlSiN涂层的研究现状及发展趋势,详细分析了Si元素的添加及Si与Al元素的含量对TiAlSiN涂层的微观结构、力学性能、高温抗氧化性和热稳定性的影响.解决PVD制备TiAlSiN涂层较低的膜基结合力和较大的残余应力等问题应是今后重点研究的方向.
关键词:
物理气相沉积
,
TiAlSiN涂层
,
微观结构
,
力学性能
,
抗氧化性
,
热稳定性
徐丽叶
,
匡达
,
邓意达
材料导报
纳米铜由于具有优异的物理、化学方面的性质且比其它贵金属如银粉等低廉得多的价格,其制备及应用研究成果层出不穷.按照固相法、气相法以及液相法分类别着重介绍了制备纳米铜粉的主要方法,包括球磨法、物理气相沉积法、γ射线法、微乳液法、电解法和还原法等,并概述了各种制备方法当前的研究进展及制备过程中的优缺点.还进一步展望了纳米铜粉作为催化剂、润滑油和导电涂料在各个领域的应用前景.
关键词:
铜
,
纳米材料
,
球磨
,
物理气相沉积
张而耕
,
朱州
,
张体波
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.04.016
介绍了物理气相沉积( PVD)技术的原理、特点和真空蒸镀、溅射镀和离子镀之间的优缺点，从二元涂层、多元涂层、多层涂层和纳米多层复合涂层等4种类别上介绍了PVD涂层技术在切削刀具上的广泛应用。在查阅和整理大量文献资料的基础上，也结合笔者多年从事PVD技术的研究与应用心得，从提高切削刀具的寿命这一重要角度出发，阐述了国内外超硬纳微米PVD涂层技术在切削刀具应用领域的研究进展，并对多元涂层、多层涂层及涂层的纳米化也进行了较为详细地论述。切削刀具表面采用物理气相沉积涂层技术能使刀具获得优异的综合性能，从而显著提高切削刀具的使用寿命，降低生产成本，大幅提高机械加工效率。最后展望了物理气相沉积涂层技术未来将在超硬切削(包括模具钢、淬硬钢等硬度超过HRC55以上的铣削加工)、难加工材料切削(包括高温合金、钛合金、不锈钢等)、石墨和碳纤维等复合材料加工和有色金属的高速切削加工(包括铝合金、铜合金、镍等)的广泛应用。
关键词:
物理气相沉积
,
二元涂层
,
多元涂层
,
单层梯度涂层
,
纳米多层涂层
,
切削刀具
吴雁
,
李艳峰
,
张而耕
,
赵杰
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.08.020
介绍了采用物理气相沉积(PVD)技术制备类金刚石涂层的方法,进而论述了涂层的摩擦磨损和结合力等性能的研究现状和发展前景.分析并综述了类金刚石涂层的技术发展,以及制备类金刚石薄膜的方法和影响其性能的多种要素.表面涂有类金刚石薄膜的工件具有较高的硬度、良好的热传导率、极低的摩擦系数、优异的电绝缘性能等.类金刚石薄膜(DLC Films)是近年来兴起的一种以sp3和sp2键的形式结合生成的亚稳态材料,因其优异的减摩和抗磨性能,在摩擦学领域获得了广泛应用,是一种与金刚石涂层性能相似的新型薄膜材料.DLC涂层的性能研究大多集中在它的摩擦学特性和结合力性能,并且作为优质的涂层材料已被广泛应用于汽车、模具、刀具等领域.
关键词:
类金刚石
,
摩擦系数
,
结合力
,
物理气相沉积
李春伟
,
苗红涛
,
徐淑艳
,
张群利
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.06.013
高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是一门新兴的高离化率磁控溅射技术.概述了HIPIMS的技术优势,包括高膜层致密度和平滑度、高膜基界面结合强度以及复杂形状工件表面膜层厚度均匀性好等.同时归纳了HIPIMS存在的问题,包括沉积速率及低溅射率金属靶材离化率低等.在此基础上,重点综述了近年来复合HIPIMS技术的研究进展,其中复合其他物理气相沉积技术的HIPIMS,包括复合直流磁控溅射增强HIPIMS、复合射频磁控溅射增强HIPIMS、复合中频磁控溅射增强HIPIMS、复合等离子体源离子注入与沉积增强HIPIMS等;增加辅助设备或装置的HIPIMS,包括增加感应耦合等离子体装置增强HIPIMS、增加电子回旋共振装置增强HIPIMS,以及增加外部磁场增强HIPIMS等.针对各种形式的复合HIPIMS技术,分别从复合HIPIMS技术的放电行为、离子输运特性,及制备膜层的结构与性能等方面进行了归纳.最后展望了复合HIPIMS技术的发展方向.
关键词:
高功率脉冲磁控溅射
,
高离化率
,
物理气相沉积
,
辅助装置
赵钦
,
马国政
,
王海斗
,
李国禄
,
陈书赢
,
周羊羊
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2017.07.010
高熵合金涂层又称多主元合金涂层,是一种新型合金涂层.受高熵效应的影响,涂层的组织结构主要由单一的BCC、FCC或者HCP固溶体相构成,且易于形成非晶、纳米晶和纳米复合物,呈现出优异的综合力学性能、抗高温氧化性能、耐辐射性能和生物兼容性能等,具有重要的研究价值和应用前景.分别从涂层的主元数量和位形熵值两方面对高熵合金涂层的概念进行了阐述,比较分析了热喷涂、激光熔覆以及物理气相沉积等几类常用的高熵合金涂层制备工艺的优点和不足,总结了高熵合金涂层的工业应用现状,最后指出了高熵合金涂层在目前的研究中存在的问题并展望了其未来的发展方向.
关键词:
高熵合金涂层
,
多主元合金涂层
,
激光熔覆
,
热喷涂
,
物理气相沉积
