骆旭梁
,
王思源
,
王宙
,
雍帆
,
付传起
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.02.013
采用真空蒸镀的方法制备磷掺杂多晶硅薄膜,研究了磷含量对多晶硅薄膜的表面形貌、组织结构、晶粒尺寸及晶化率的影响.结果表明:随着磷掺杂分数的增加,多晶硅薄膜的晶粒尺寸和晶化率表现出先增加后降低的趋势,当磷掺杂分数为1％时,薄膜晶粒尺寸达到最大值,为0.55 μm,晶化率为96.82％,且晶粒的均匀性最佳.
关键词:
真空蒸镀
,
多晶硅薄膜
,
磷掺杂
,
晶化率
