罗浩俊
,
胡成余
,
姚淑德
,
秦志新
材料研究学报
在用MOCVD方法生长的p--GaN薄膜中注入Mg离子,
然后在N$_{2}$气氛下在850$\sim$1150℃之间快速退火,
研究了Mg$^{+}$离子注入后样品退火前后的结构、光学和电学性质. 结果表明,
离子注入使GaN晶体沿着$a$轴和$c$轴方向同时膨胀.
在离子注入后的p--GaN薄膜的拉曼散射谱中出现波数为300 cm$^{-1}$和360 cm$^{-1}$两个新峰,
其强度随着退火温度而变化. 这两个新峰分别对应于布里渊区边界的最高声学声子支的
振动模式和局域振动模式. 消除这两个损伤引起的峰的临界温度是不同的.
注入剂量1$\times$10$^{14}$cm$^{-2}$是一个临界值,
对于注入剂量高于这个临界值的样品, 高温退火不能使其晶体质量全部恢复.
关键词:
无机非金属材料
,
null
,
null
