洪波
,
潘应君
,
张恒
,
张扬
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.09.005
目的：优化钼表面直流磁控溅射镀镍薄膜的工艺,提出后续热处理方法。方法设计正交实验,探究溅射功率、溅射气压、负偏压和沉积时间对镍薄膜沉积速率和附着力的影响,从而优化工艺参数。利用扫描电镜和平整度仪对最佳工艺参数下制备的薄膜的组织结构进行表征,并研究后续热处理对薄膜附着力的影响。结果工艺参数对镀镍薄膜沉积速率影响的主次顺序为：功率>溅射气压>负偏压；对薄膜附着力的影响主次顺序为：负偏压>沉积时间>功率>溅射气压。随溅射功率增大,沉积速率增大,薄膜附着力先增后减；随溅射气压增大,沉积速率和薄膜附着力均先增后减。负偏压增大对沉积速率影响较小,但有利于提高薄膜附着力。随沉积时间延长,薄膜附着力降低。在氢气气氛下进行850℃×1 h的后续热处理,能够促进扩散层的形成,明显提高镍薄膜的附着力。结论最佳镀镍工艺参数为：溅射功率1.8 kW,溅射气压0.3 Pa,负偏压450 V,沉积时间10 min。在该条件下制备的镍薄膜厚度达到1.15μm左右,与基体结合紧密,表面平整、连续、致密。后续增加热处理工序是提高镍薄膜附着力的有效方法。
关键词:
磁控溅射
,
镍薄膜
,
沉积速率
,
附着力
,
热处理
宁婕妤
,
刘邦武
,
夏洋
,
李超波
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.01.033
采用光诱导液相沉积(LIP)的方法制备了Ni、Cu 薄膜,并进一步讨论了沉积温度等相关因素对薄膜成分与形貌的影响.采用 X 射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)、四探针测试仪等分别对薄膜的成分、形貌、电阻率、非均匀性等进行表征.结果显示,制备的 Cu 膜电阻率为1．87×10-8Ω??m,非均匀性为2．64％.此外,将制备的 Ni/Cu 工艺应用于制备晶硅电池的栅线电极,用 I-V 测试仪测试电池参数,填充因子高达77．8％.
关键词:
镍膜
,
铜膜
,
光诱导电沉积
,
表征
,
制备
李一
,
聂俊辉
,
李楠
,
柳学全
,
贾成厂
功能材料
以Ni（CO）4为前驱体，通过羰基金属化学气相沉积工艺在碳纤维表面沉积连续镍膜，从而制得镍覆膜碳纤维材料。实验给出了镍覆膜碳纤维的较佳制备工艺条件。借助SEM、EDX、XRD、冷热循环实验、断裂强度分析、差热分析等多种分析测试手段研究了镍覆膜碳纤维的性能。结果表明碳纤维表面沉积的膜层为纯镍相，连续致密，与碳纤维基底结合良好，可经受4次冷热循环而不脱落；碳纤维表面沉积连续镍膜后，其断裂强度提高了34．9％；差热分析显示沉积连续镍膜后可有效提高碳纤维的抗氧化性能。
关键词:
四羰基镍
,
金属有机化学气相沉积
,
(MOCVD)
,
碳纤维
,
镍膜
刘洋
,
王丹洁
,
寿容儿
,
张红星
,
余云丹
,
卫国英
,
葛洪良
,
孙丽侠
电镀与精饰
doi:10.3969/j.issn.1001-3849.2014.05.011
利用化学镀方法,在没有外磁场和施加弱磁场条件下制备了磁性镍薄膜.薄膜均具有银色金属光泽,表面平整致密.X-射线衍射仪分析表明,弱磁场下制得的薄膜中镍晶粒的取向排列性较强.扫描电子显微镜观察可知,未加磁场制备的镍膜是由粒径200hm的镍纳米颗粒在基底上沉积组成的.在磁场条件下制备的镍膜是由数十微米长的镍纳米线在基底上有序排列组成.磁测量结果表明,磁场条件下制备的镍膜的磁性能有显著改变,原因是由膜层特殊的磁畴结构造成的.
关键词:
化学镀
,
磁场
,
镍薄膜
,
形貌
,
磁性能
