刘红亮 陶冶
物理测试
利用MeVVA离子源技术对阴极磁过滤真空弧沉积的TiAlN薄膜进行了不同注入剂量的Nb及Nb+C离子注入。采用EDS、TEM、GIXRD、显微硬度等测试方法研究了离子注入剂量对于薄膜微观结构和性能的影响。结果表明，注入剂量为Nb5×1017 ions/cm2+C5×1017 ions/cm2时，Nb在TiAlN薄膜内的注入投影射程为130nm；在薄膜表层形成厚度约50nm的非晶与纳米晶的复合结构；在次表层，晶粒发生局部扭曲变形。随着离子注入剂量的增加，薄膜与基底的复合硬度由HV1900增加到HV3000，在高剂量离子注入条件下，薄膜的硬度提升更为显著。
关键词:
离子注入
,
TiAlN film
,
amorphous
,
nano crystalline
