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7075铝合金微弧氧化涂层的组织结构与耐蚀耐磨性能

王艳秋王岳陈派明邵亚薇王福会

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00010

采用微弧氧化技术在7075铝合金表面制备保护性涂层, 考察工艺参数对涂层生长过程的影响规律, 利用SEM和XRD测试微弧氧化涂层的微观组织, 通过中性盐雾实验评价涂层的耐腐蚀性能, 通过摩擦磨损实验研究涂层的摩擦磨损特性. 结果表明, 电流密度和氧化时间是影响微弧氧化涂层质量和厚度的重要参数; γ-Al2O3是微弧氧化涂层的主要组成相, 基体材料成分和电解液组分都会影响涂层的相组成; 涂层厚度以及封孔处理对涂层的耐腐蚀性能具有显著影响, 经适当工艺制备和处理的微弧氧化涂层耐中性盐雾实验时间可达2000 h以上, 耐蚀性优异; 微弧氧化处理能够显著提高7075铝合金的耐磨性, 与7075铝合金基体和硬质阳极氧化膜相比, 微弧氧化涂层的耐磨性分别提高了约400倍和50倍.

关键词: 铝合金 , microarc oxidation , coating , corrosion resistance , wear resistance

镁合金微弧氧化预处理化学镀镍研究

李均明 , 薛晓楠 , 王爱娟 , 马安博 , 符致昭

中国腐蚀与防护学报

镁合金微弧氧化(MAO)预处理后,无需碱洗酸洗活化等传统预处理直接在硫酸镍溶液中化学镀镍。表征了镀镍层的显微结构与成分,研究了MAO预处理对镀层厚度、硬度、 导电性及耐蚀性的影响。结果表明:含有Ni,P两种元素的镀层由均匀分布的胞状颗粒组成。 MAO预处理显著影响镀层的厚度与导电性;当MAO薄膜从3 μm增厚至7 μm时,镀层的厚度快速增大而方块电阻迅速下降。极化曲线测试表明,当MAO薄膜厚15 μm时化学镀镍镁合金的腐蚀电位最高,腐蚀电流最小。48 h盐雾实验表明,MAO预处理化学镀镍镁合金的耐蚀性显著优于传统预处理化学镀镍镁合金。

关键词: 镁合金 , microarc oxidation , electroless nickel plating , pretreatment , corrosion resistance

镁合金微弧氧化边角烧蚀的ANSYS仿真研究

曹克宁 , 白晶莹 , 张立功 , 王景润 , 李思振 , 冯立

电镀与涂饰

采用有限元分析软件ANSYS建立了微弧氧化时AZ40M镁合金试样、辅助阳极及周围电解液环境的有限元模型,对其进行静电场中电场强度与焦耳热的有限元模拟,得出试样设置辅助阳极前后的电场强度及焦耳热分布云图,分析辅助阳极对试样表面电场强度均匀性的影响.将模拟结果与实际试验结果进行对比,认为辅助阳极的设置可以有效解决微弧氧化过程中边缘烧蚀的问题.

关键词: 镁合金 , 微弧氧化 , 边缘烧蚀 , 辅助阳极 , 有限元法 , 模拟 , 电场强度

微弧氧化工艺参数对BaTiO_3和SrTiO_3薄膜生长的影响

王敏 , 郭会勇 , 黄文波 , 李文芳

材料热处理学报

将工业纯Ti板(99.5%)分别置于Ba(OH)2、Sr(OH)2+NaOH溶液中微弧氧化制备BaTiO3和SrTiO3陶瓷薄膜。XRD分析表明:所制备的薄膜分别主要由四方相BaTiO3和立方相SrTiO3组成。测得最优工艺条件下所得两种薄膜在100 Hz下的介电常数分别为152.3和419.1,介质损耗(tanδ)值分别为0.096和0.045。重点研究了微弧氧化工艺参数对薄膜生长的影响规律,结果表明:随着电解液溶度、电流密度的增加以及电流频率的降低,薄膜的生长速度加快;提出并验证了薄膜生长动力学的经验公式。

关键词: 微弧氧化 , 钛酸钡 , 钛酸锶 , 介电性能

多孔微弧氧化膜层的热传导和激光重熔行为研究

狄士春 , 喻杰 , 王岩 , 孙术发

稀有金属材料与工程

基于6082铝合金的微弧氧化(MAO)膜层微观形貌,归纳了3类组织缺陷,以此探讨了MAO膜层的激光能量吸收过程、热传导性能和激光重熔行为.研究表明:激光辐射后,在膜层表面的微孔和微裂纹处容易出现等离子体的光能吸收效应,产生高温热源点,形成微小熔池,由于MAO膜层的各向异性热传导和表面光滑微区的热能积累,初期熔池横向生长速度快,直至熔池汇聚成连续的表面重熔区,膜层的纵向重熔速度加快,最终冷却形成重熔层.SEM和XRD检测证实激光重熔改善了MAO膜层的多孔疏松组织,提高了α-Al2O3相的含量.

关键词: 铝合金 , 微弧氧化 , 激光重熔 , 热传导 , 熔池

SiC颗粒增强体对铝基复合材料微弧氧化膜生长的影响

薛文斌

金属学报

通过微弧氧化方法在SiC/2024铝基复合材料表面沉积出较厚的陶瓷膜。测定陶瓷膜的生长曲线,用扫描电镜、X射线衍射分析了膜层的形貌和相组成。着重分析了颗粒增强体在膜层内的形态变化,提出一个金属基复合材料微弧氧化膜生长模型。结果表明,微弧放电烧结作用下,膜层内SiC增强体大部分已被熔化并氧化,只有少数残余的SiC颗粒仍然保留在靠近界面的膜层内。SiC增强体阻碍了微弧氧化膜的生长,但它并没有破坏微弧氧化膜的完整性,这同复合材料阳极氧化膜结构完全不同。

关键词: 微弧氧化 , aluminum matrix composites , ceramic film , growth mechanism

TC4合金微弧氧化层的耐磨性和耐蚀性

周鹏 , 林乃明 , 田伟 , 姚小飞 , 田林海 , 唐宾

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.11.003

目的 对比不同电解液体系中制备的陶瓷膜层的耐磨损和耐腐蚀性能,判断实验条件下陶瓷膜性能最优的电解液体系. 方法 在相同的电参数工艺下,分别在NaAlO2 ,( NaPO3 ) 6 和Na2 SiO3 电解液体系中对TC4合金进行微弧氧化处理,处理时间为15 min. 分析陶瓷层的表面形貌、成分和相结构. 进行干摩擦条件下的摩擦磨损实验,对比TC4合金及三种陶瓷膜的耐磨性. 通过测试极化曲线,对比TC4合金及三种陶瓷膜的耐蚀性. 结果 在NaAlO2,(NaPO3)6,Na2SiO3 电解液体系中获得的陶瓷层表面呈现出多孔和局部凸起的相似表面特征,但相组成存在差异,主要相分别为Al2 TiO5 ,AlPO4 和TiO2. 摩擦磨损实验表明,在10 N载荷下,以Si3 N4 陶瓷球作为摩擦配副,陶瓷层的磨损失重相对基材均显著减小,其中( NaPO3 ) 6-陶瓷层失重约为基材的1/22. 极化曲线分析表明,在模拟油田采出液作为腐蚀液的条件下,与TC4合金相比,陶瓷层的Ecorr显著正移,Jcorr明显减小,其中(NaPO3)6-陶瓷层的Ecorr从-0. 311 V正移至0. 777 V,Jcorr从9. 634×10-7 A/cm2 减小到2. 595×10-8 A/cm2. 结论 微弧氧化处理能够显著改善TC4合金的耐磨性和耐蚀性,其中( NaPO3 ) 6-陶瓷层的综合性能较好,有望满足TC4合金服役于油田环境时的要求.

关键词: TC4合金 , 微弧氧化 , 陶瓷层 , 耐磨性 , 耐蚀性 , 模拟油田采出液

微弧氧化法制备WO_3/TiO_2复合薄膜的结构及光催化性能

何剑 , 蔡启舟 , 肖枫 , 罗强 , 王丽娟 , 祝迪

催化学报

采用微弧氧化工艺分别在钨酸盐和磷酸盐电解液中制备了WO_3/TiO_2复合薄膜和单一的TiO_2膜(P-TiO_2),利用X射线衍射、扫描电子显微镜、紫外-可见光谱和荧光光谱对这两种膜层的结构及光物理特性进行了表征.结果表明,P-TiO_2膜由锐钛矿与金红石混合相组成,而WO_3/TiO_2膜中除锐钛矿与金红石混合相外,还含有W0O相.两种膜层表面粗糙多孔,WO_3/TiO_2膜的孔洞数量更多,分布更均匀.WO_3/TiO_2膜的光吸收范围较P-TiO_2膜略宽,但后者在紫外光区的光吸收性能更好.WO_3O/TiO_2膜的荧光发光强度比P-TiO_2的小,光生电子-空穴之间的分离效果好.与P-TiO_2膜相比,WO_3/TiO_2膜的表面酸度高,吸附有机物和羟基的能力更强.紫外光下照射2 h,WO_3/TiO_2能够降解85%罗丹明,而P-TiO_2膜只能降解23%.WO_3/Ti0_2膜的高光催化活性源于它较高的比表面积、较优的电子.空穴分离效果和较高的表面酸度.

关键词: , , 微弧氧化 , 电解液 , 二氧化钛膜 , 光催化

不同含磷电解液在微弧氧化过程中的作用

李建中

中国腐蚀与防护学报

改变电解液的组成,在相同条件下进行铝镁合金表面的微弧氧化处理,用SEM/EDS手段观察氧化膜的形貌及对其成分分析并测量微弧氧化膜的厚度,根据锉刀试验评价氧化膜与基体的结合力。结果表明,磷元素的大化学计量比可以提高微弧氧化成膜速度,降低氧化膜的孔隙率,提高其致密性,增强与基体的结合力,并改变了氧化膜的组成;同时,分了的聚合状态也影响其成膜速度和氧化膜的孔隙率,链状聚合物可提高氧化膜成膜速度及氧化膜的致密性,降低其孔隙率,而环状聚合物对其影响较小。

关键词: 微弧氧化 , the forms of elements , Al-Mg alloys , stoichiometry , molecule structure

TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜生长规律及电容效应

王宏元 , 朱瑞富 , 王志刚 , 吕宇鹏 , 肖桂勇 , 朱先俊

功能材料

对TA2工业纯Ti微弧氧化陶瓷膜的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷膜表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的实验现象及结果。模拟微弧氧化工艺反应过程,运用多种理论建立并分析了氧化陶瓷膜生长模型及等效电路。模型及电路分析结果证明,陶瓷膜在形成时呈现先离散分布后连接成片的生长特点,成膜后TiO2陶瓷膜具有交流耦合电容效应。模型及等效电路分析与实验结果是吻合的,为改善TA2工业纯Ti微弧氧化工艺并提高陶瓷膜性能提供了实验与理论基础。

关键词: 工业纯Ti , 微弧氧化 , 陶瓷膜 , 生长规律 , 电容效应

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