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一种太阳电池纳米陷光结构的制备方法

张福庆 , 程广贵 , 郭立强 , 凌智勇 , 张忠强 , 袁宁一 , 丁建宁

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.17.034

提出了一种利用石墨纳米颗粒作为掩膜,通过金属辅助刻蚀来制备具有低反射率的太阳电池纳米陷光结构的方法。用该方法制得了一种表面覆盖有纳米线和纳米孔的太阳电池纳米陷光结构。结合金属辅助刻蚀的机制和这种陷光结构的形成原理,分析了石墨纳米颗粒和 H2 O2浓度对陷光结构形貌的影响,并讨论了陷光结构的形貌对样品陷光性能的影响。最后,制得了在300~1100nm波长范围内平均反射率仅为3.6%的太阳电池陷光层。

关键词: 陷光 , 石墨纳米颗粒 , 金属辅助化学刻蚀 ,

基于金属催化化学腐蚀的硅纳米线可控制备

陈梓铭 , 王志恒 , 陈颖聪 , 陈津桥 , 肖经洋 , 姚日晖

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.12.024

硅纳米线由于其独特的光电特性,被认为是最具前景的光电材料之一。本文关注于使用金属催化化学腐蚀法制备硅纳米线当中各种可控参数的影响,成功地完成了硅纳米线制备。研究发现,高电镀液浓度与长电镀时间都会形成小密度的硅纳米线阵列;而腐蚀液浓度控制着腐蚀速率与硅纳米线的形貌。腐蚀时间对硅纳米线长度和密度都具有一定的影响;而使用氮气干燥能够改善硅纳米线的聚集情况。

关键词: 金属催化化学腐蚀 , 硅纳米线 , 制备 , 可控参数

金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线及应用

范绪阁 , 李国才 , 程超群 , 胡杰

应用化学 doi:10.3724/SP.J.1095.2013.30048

金属辅助化学刻蚀是近些年发展起来的一种各向异性湿法刻蚀,利用该方法可以制备出高长径比的半导体一维纳米结构.本文综述了金属辅助化学刻蚀法可控制备硅纳米线的最新进展,简要概述了刻蚀的基本过程与机制,重点阐述了基于不同模板的金属辅助化学刻蚀可控制备高度有序、高长径比的硅纳米线阵列的具体流程与工艺,并介绍了其在锂离子电池、太阳能电池、气体传感检测和仿生超疏水等方面的潜在应用,探讨了目前存在的问题及其今后的研究发展方向.

关键词: 硅纳米线 , 金属辅助化学刻蚀 , 可控制备 , 模板 , 锂离子电池

利用金属辅助化学腐蚀法在硅表面获得纳米绒面结构以提升多晶硅太阳电池效率?

陈森荣 , 梁宗存

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.22.001

在硅片表面制备绒面结构能够有效降低太阳光在硅片表面的反射损失,是提高太阳能电池转换效率的一条重要途径。通过真空热蒸发法在多晶硅片上沉积纳米银颗粒,利用金属辅助化学腐蚀(MACE)法,制备了不同腐蚀时间下的纳米绒面结构,其中,腐蚀时间为60 s 的纳米绒面的平均反射率低至4.66%(300~1100 nm)。同时,对腐蚀时间为60 s的纳米绒面用KOH 溶液进行优化处理,将KOH 处理前后的多晶硅片采用常规电池工艺进行电池制备研究。对比发现,经过KOH 处理后的电池效率比未经KOH 处理的电池效率提高了0.43%。

关键词: 纳米绒面 , 多晶硅 , 金属辅助化学腐蚀 , 太阳电池

金属催化化学腐蚀法制备硅纳米线

姚日晖 , 陈梓铭 , 王志恒 , 陈颖聪 , 陈津桥

材料导报

主要阐述采用金属催化化学腐蚀法制备硅纳米线.首先介绍了金属催化化学腐蚀法的基本原理和条件,然后探讨了催化金属的种类、腐蚀时间、腐蚀液浓度、硅衬底的晶向、掺杂浓度等各种因素对金属催化化学腐蚀法制备硅纳米线的影响.

关键词: 金属催化化学腐蚀 , , 纳米线

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