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铽-环丙沙星纳米稀土配合物合成、表征及发光性质研究

王莹 , 姜兆华 , 吕玉光 , 马冬云 , 张云杰 , 袁寰

稀土

制备了纳米铽-环丙沙星-邻菲啰啉稀土配合物,通过元素分析、热重差热分析、X射线衍射(XRD)、红外光谱、紫外光谱对配合物的组成、结构进行了表征,研究了配合物溶解性、热稳定性、发光性能和邻菲啰啉第二配体加入对铽-环丙沙星体系荧光性质的影响.荧光光谱的研究表明,环丙沙星通过分子内能量传递将部分能量传递给铽离子,同时邻菲啰啉的加入能有效地增强铽离子发光强度,配合物具有良好的发光性能,在紫外光激发下显示出Tb3的特征发射峰,发出很强的绿色荧光.

关键词: 纳米稀土配合物 , , 环丙沙星 , 表征 , 发光性质

NdF3六边形纳米片的可控合成及发光性能研究

陶锋 , 刘莉 , 陆子飚 , 王志俊 , 孙宇峰 , 刘琪

人工晶体学报

采用水热法,通过调节起始反应溶液中nNd3+/nF-的比值、pH值和螯合剂成功合成了NdF3六边形纳米片.采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等对合成样品的物相结构及晶粒形态进行了表征,并提出了其可能的生长机制.室温下NdF3六边形纳米片的发射光谱在红外光区904 nm,1066 nm和1330 nm处存在较强的发光峰,最强发射峰位于1066 nm;上转换光谱在522 nm和580 nm处存在较强的发光峰,最强发射峰位于黄光区的580 nm.

关键词: 水热法 , NdF3 , 六边形纳米片 , 发光性能

高铝青铜磷光复合烧结涂层组织及发光性能

李文生 , 王爽 , 何玲 , 褚克 , 董洪峰

材料科学与工艺

采用真空热压烧结法在45 #钢基体上制备高铝青铜SrAl2O4∶Eu2+,Dy3磷光粒子自敏复合涂层,利用SEM、XRD和荧光分光光度计研究分析烧结复合涂层的结构及发光性能.结果表明:烧结复合涂层组织主要由高铝青铜烧结相、SrAl2O4的低温α相和高温β相共同组成,界面处主要以机械结合为主,并存在部分微区焊合点,涂层的发射光谱是典型的Eu2的4f5d→4f特征发射谱,烧结复合涂层表面发光强度受金属杂质、温度、压力、粉末粒度因素的影响.

关键词: 高铝青铜 , 磷光粒子 , 复合涂层 , 发光性能

近紫外白光LED用KBa2(NbO3)5∶Eu3+红色荧光粉的合成与发光性能

李登宇 , 王海波 , 朱月华 , 邢海东 , 施丰华 , 卓宁泽

人工晶体学报

采用高温固相法制备了稀土离子Eu3+掺杂KBa2(NbO3)5(KBN)新型红色荧光粉,用X射线衍射谱(XRD)、扫描电镜(SEM)、荧光光谱(PL)对其晶体结构和发光性能进行了表征.XRD表明KBa2(NbO3)5的晶体结构没有随着Eu3+掺杂量的改变而改变,随着Eu3+掺杂量的增加,各衍射峰的位置向高衍射角偏移;SEM表明荧光粉样品晶体发育较好;荧光光谱表明Eu3+掺杂KBa2(NbO3)5荧光粉在398 nm有最强激发峰,发射光谱的最强峰随Eu3+浓度增加从593 nm(5 D0→7F1)变为613 nm(5D0→7F2).当Eu3+的掺杂摩尔分数x在0.1 ~0.5范围内时,发光强度和红光色纯度随着Eu3的浓度增加而增加,无浓度猝灭现象出现.

关键词: 高温固相法 , 近紫外 , 白光LED , KBa2(NbO3)5∶Eu3+ , 发光性能

近紫外激发的Na2ZnSiO4∶Sm3+橙红色荧光粉的合成及发光性能

王萍 , 杨定明 , 何晓林 , 王刚 , 王前进

人工晶体学报

采用溶胶-凝胶法制备了适合于近紫外激发的橙红色荧光粉Na2 ZnSiO4∶Sm3+,利用X射线衍射、扫描电镜、荧光光谱对样品的相结构、形貌及发光性能进行了表征.结果表明:制得的样品属于单斜晶系,粒径约为2 μm.样品的激发光谱在330 ~ 550 nm间呈多峰分布.在404 nm近紫外光激发下,发射光谱由峰值为566 nm,604 nm和650 nm的3个峰构成,发射主峰位于604 nm处,对应Sm3+的4 G5/2→6H7/2跃迁,呈橙红光发射.当Sm3+的掺量为3%时,其发光强度达到最大,随后减小,是由电偶极-电偶极相互作用引起的浓度猝灭.

关键词: Na2ZnSiO4∶Sm3+ , 荧光粉 , 溶胶-凝胶法 , 发光性能

Na2SrP2O7∶Sm3+橙色荧光粉的制备与发光性能的研究

刘峥 , 张菁 , 谢思维 , 周诗灿

人工晶体学报

利用稀土离子Sm3+作为激活剂,采用传统的高温固相法制备了Na2SrP2O7∶xSm3+(x=0.02mol%)橙色荧光粉.用扫描电镜、X射线衍射仪和荧光分光光度计对粉体的表面形貌、晶体结构和荧光光谱进行了表征.XRD分析和荧光光谱分析得出:最佳的烧结温度为700℃.该荧光粉能够被404 nm光高效激发,发射光谱在可见光区呈三峰发射,峰值位于564 nm、603 nm、647 nm,其最强发射峰位于603 nm处,对应于Sm3的4G5/2→6H7/2特征发射.设定发射波长为603 nm,得到荧光粉的激发光谱为一个主峰位于404 nm的宽带激发峰,表明该荧光粉可被紫外光和近紫外光有效地激发.研究了Sm3+掺杂浓度和助熔剂NH4Cl含量对Na2SrP2O7∶Sm3+橙色荧光粉荧光性能的影响,得出Sm3+的最佳掺杂量为2mol%.3wt%的助熔剂NH4Cl有利于荧光粉颗粒的分散,减小平均粒径,改善晶粒形貌,提高荧光粉的相对发光强度,还能降低制备所需的温度.

关键词: 高温固相法 , Na2SrP2O7∶Sm3+ , 橙色荧光粉 , NH4Cl , 发光性能

高铝青铜磷光复合冷喷涂层的发光及摩擦磨损性能

杜连超 , 李文生 , 何玲 , 杨效田 , 吕叶 , 王福全 , 安国升 , 冯力

表面技术 doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2015.08.006

目的:将耐磨材料、涂层制备技术以及磷光粒子的指示功能结合,发展一种简便经济的涂层监测技术。方法采用冷喷涂技术在T3紫铜基体上制备高铝青铜涂层及高铝青铜磷光复合涂层,利用SEM、EDS及荧光分光光度计等观察冷喷涂层的形貌,分析发光粒子的分布及涂层发光性能,并在室温条件下采用CSM往复式摩擦磨损试验机对干摩擦条件下涂层的摩擦磨损特性进行测试和分析。结果磷光粒子均匀分布在复合涂层中。涂层有较好的发光性能,经紫外线激发后发出裸眼可识别的黄绿光。磷光粒子的添加提高了高铝青铜磷光复合涂层的硬度,涂层摩擦表面磨痕较浅,呈轻微磨粒磨损特征,而高铝青铜涂层摩擦表面发生严重塑性变形,有剥落块及磨屑粘附在磨痕表面,呈粘着、疲劳磨损特征。结论磷光粒子的添加提高了复合涂层的抗磨性。磨损后的磷光复合涂层经紫外灯照射后,无荧光现象发生,能够实现检测涂层存在与否的功能。

关键词: 高铝青铜 , 磷光粒子 , 复合涂层 , 发光性能 , 摩擦磨损

2-呋喃甲醛缩水杨酰腙锰配合物的晶体结构与荧光性质

郑长征 , 宋斌 , 徐守卫 , 任立娣

人工晶体学报

利用2-呋喃甲醛与水杨酰肼缩合成一种含有呋喃环的新型芳酰腙2-呋喃甲醛缩水杨酰腙L,将L与MnCl2·4H2O在乙醇-丙酮体系中反应得配合物MnL2Cl2,对配合物进行Ⅹ-射线单晶衍射、Ⅹ-射线粉末衍射、元素分析、核磁共振、红外光谱、紫外光谱、热重分析、荧光光谱表征.结构分析表明配合物MnL2Cl2呈现扭曲八面体构型,属于单斜晶系,空间群P2/c,晶胞参数a=0.8225(8) nm,b=1.9079(17) nm,c=1.8638 (14) nm,β=115.40(3)°,V=2.642(4) nm3,Z=4.配合物分子通过分子间氢键和苯环面对面π…π作用力形成二维链状结构,继而在层与层之间通过边对面π…π作用力构成三维层状超分子结构.热重分析表明,该配合物有较高的热稳定性;荧光光谱显示配体形成配合物后荧光性明显增强.

关键词: 水杨酰腙 , 晶体结构 , 锰配合物 , 荧光性质

白光LED用Ce:YAG单晶光学性能及封装工艺的研究

向卫东 , 赵斌宇 , 梁晓娟 , 陈兆平 , 谢翠萍 , 骆乐 , 张志敏 , 张景峰 , 钟家松

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2014.13481

采用提拉法生长了白光LED用Ce:YAG单晶,通过吸收光谱、激发发射光谱和变温光谱对其光学性能和热稳定性进行了表征,并研究了晶片用于封装白光LED光源中各因素对其光电性能的影响。Ce:YAG晶片能被466 nm波长的蓝光有效激发,产生500~700 nm范围内的宽发射带。Ce3+的4f→5d轨道的跃迁吸收对应于202、219、247.3、347.4和455.5 nm五个吸收峰,据此量化分裂的5d能级能量,依次为21954、29154、40437、45662和49505 cm-1。温度升高, Ce3+的2F7/2能量升高导致了发光强度的降低,可降低幅度(13.28%)不大,比肩国家标准且要优于目前商用白光光源的Ce:YAG单晶制白光LED光源的封装工艺,从芯片、驱动电流、晶片厚度和添加物四方面进行讨论。研究结果表明, Ce:YAG单晶是一种新型白光LED用荧光材料。

关键词: 白光LED , 铈掺杂钇铝石榴石 , 光学性能 , 封装工艺 , 光电性能

超分子化合物[UO2Cl4][phenH]2的合成、晶体结构、荧光性质及[UO2Cl4][phenH]2/PVA薄膜的发光性能

王娟 , 吕鑫 , 何福兰 , 苏进雄

应用化学 doi:10.3724/SP.J.1095.2011.00264

水热条件下合成了一种含铀的超分子化合物[UO:Cl4][phenH]2(phen=1,10-邻菲罗啉),进行了X射线单晶衍射、红外光谱、紫外光谱和荧光光谱分析.晶体结构分析表明,该化合物由2个[phenH]+阳离子和1个阴离子[UO2Cl4]2-组成.红外光谱和X射线单晶衍射表明,标题化合物的三维框架是由N-H…Cl、C-H…Cl和C-H…O弱氢键相互作用所构建.中心U原子是六配位,有4个Cl原子和2个O原子.此外,没参与配位的phen利用氢键和π…π堆积与[UO:Cl4]2-相互作用.含U原子的阴离子是一种扭曲八面体结构.利用溶胶-凝胶法合成了化合物的PVA薄膜.标题化合物和薄膜均有较强的荧光性.

关键词: , 晶体结构 , 发光性能 , PVA薄膜

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