刘斌
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张杰
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张涛
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邵亚薇
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孟国哲
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王福会
腐蚀学报（英文）
利用电化学测量方法测量纯镍在3.5% NaCl溶液中,静水压力为0 MPa和8 MPa条件下的点蚀击破电位和孕育时间.分析得到纯镍在不同静水压力下点蚀击破电位的理论精确值,利用随机分析方法分析纯镍在静水压力下的点蚀机制.实验结果表明静水压力对纯镍的点蚀过程有着重要的影响,在静水压力下纯镍的点蚀行为和机制发生了改变.在较高的静水压力下,纯镍点蚀产生的敏感性增强,点蚀击破电位Ecritical明显降低；纯镍点蚀诱导时间也变短,其点蚀产生的机制发生了改变；在较高静水压力下,纯镍表面的钝化膜活性增强,恶化了纯镍的耐蚀能力.
关键词:
静水压力
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nickel
,
deep ocean
,
itting
,
stochastic analysis
