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聚偏氟乙烯-氟化二氧化硅有机-无机复合膜的制备及脱硫性能

李颖娜 , 李涵 , 叶卉 , 张玉忠 , 李泓 , 陈颖

高分子材料科学与工程 doi:10.16865/j.cnki.1000-7555.2017.02.023

以聚偏氟乙烯(PVDF)为基膜材料,通过溶胶凝胶-氟化法在PVDF膜表面沉淀氟化的二氧化硅纳米颗粒(fSiO2),制备聚偏氟乙烯-氟化二氧化硅(PVDF-fSiO2)有机-无机复合膜.通过衰减全反射傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、场发射扫描电子显微镜、接触角测定仪等对PVDF-fSiO2复合膜进行表征,并评价其脱硫性能.结果表明,PVDF-fsio复合膜表面的接触角为106.9°,明显高于PVDF膜的76.4°;由于PVDF-fsiO2复合膜的良好疏水性能和fSiO2粒子对基膜的保护作用,随着脱硫时间的延长,PVDF-fSiO2气-液膜接触器的脱硫率基本保持在79%左右.

关键词: 聚偏氟乙烯 , 气-液膜接触器 , 氟化二氧化硅 , 脱硫

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