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氮氧化硅薄膜的研究进展

张宗波 , 罗永明 , 徐彩虹

材料导报

氮氧化硅薄膜材料具有优异的热力学、介电及光学性能,在微电子、光学器件等方面有着重要应用.其主要制备方法包括化学气相沉积、溅射、直接氮化/氧化及离子植入.综述了该类材料的制备方法和应用研究进展,并指出了制备方法和应用研究的发展方向.

关键词: 氮氧化硅 , 薄膜材料 , 制备方法 , 应用