Wei Liu Lei Zhang J.K. Shang
材料科学技术（英文）
The thermodynamic conditions for dewetting of a liquid solder drop on copper thin films were examined under a hot-stage optical microscope in a flowing protective atmosphere. Dewetting of liquid solder was found to depend strongly on the copper film thickness and preceded by spalling of Cu6Sn5 intermetallic compounds. However, the loss of interfacial bonding by spalling was not sufficient to cause immediate dewetting of solder drops if the wetting tip was still strongly bonded to the copper film. By introducing a pinning force on the wetting front, a sufficient condition was found from a force balance analysis for dewetting of the liquid solder drop, in general agreement with the experimental results.
关键词:
Dewetting
,
dewetting
,
solder
,
spalling
,
film thickness
田鹏晖
,
郭峰
,
王志君
,
刘长松
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.10.012
目的 研究固液界面对流体动压润滑油膜厚度的影响.方法 在面接触润滑油膜光学测量装置中,旋转的光学玻璃圆盘和静止的微型滑块平面构成面接触摩擦副.实验选取PAO6和80％甘油水溶液作为润滑剂,而滑块使用的表面材料为钢和二氧化硅两种.实验中分别利用同种润滑液体与不同滑块表面材料组合,以及不同润滑液体与同种滑块表面材料组合成不同界面组.针对不同界面组进行不同条件下的膜厚-速度关系曲线的测量.各界面的亲和性通过液体对固体的接触角评价.结果 PAO6/钢界面与PAO6/SiO2界面产生的膜厚-速度曲线无明显差别,并与经典润滑理论计算值保持一致.而PAO6对钢表面和二氧化硅表面的接触角分别为17.5°和21.9°,两界面的亲和性差别不大.当界面组内各界面亲和性差别较大时,对应的膜厚表现出差别.亲和性较弱,或对应液体在固体的接触角较大时,膜厚相对较低.对于文中实验条件,界面效应随载荷的增加表现明显.初步分析表明,载荷的增加会加大摩擦副出口处油膜的剪切应变率,诱发滑移,从而使得界面效应明显.结论 在流体动压薄膜润滑条件下,固液界面亲和性可以对膜厚产生明显的影响.
关键词:
面接触
,
流体动压润滑
,
光学测量
,
接触角
,
固液界面亲和性
,
油膜厚度
,
界面效应
张华
,
杨坚
,
刘慧舟
,
冯校亮
,
王书明
功能材料
报道了用脉冲激光沉积技术(PLD)在CeO_2/YSZ/Y_2O_3/NiW衬底上连续制备YBCO超导层的研究结果.分析了衬底温度、薄膜厚度和退火时间分别对YBCO的织构、表面形貌及c轴晶格常数的影响.实验发现温度较低将导致a轴晶粒的生长,薄膜太厚将引起表面形貌变差,而YBCO薄膜c轴晶格常数随退火时间的增长而减小.最终得到了高质量的YBCO涂层导体,超导转变宽度(ΔT_c)为1.6K,临界电流密度(J_c)达1.3MA/cm~2(77K,SF).
关键词:
涂层导体
,
PLD
,
衬底温度
,
薄膜厚度
,
c轴晶格常数
魏雄邦
,
蒋亚东
,
吴志明
,
廖家轩
,
贾宇明
,
田忠
材料导报
采用直流反应磁控溅射法在不同基片上制备了80nm和1000nm厚的氧化钒薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜及扫描电镜进行了薄膜微观结构分析.结果表明,薄膜的晶化受衬底影响较大,晶化随膜厚的增加而增强.不同衬底上生长的薄膜晶粒尺寸存在较大差异,Si_3N_4/Si衬底上生长的薄膜晶粒细小,薄膜较为平坦;玻璃衬底、Si衬底和α-Al_2O_3陶瓷衬底上生长的薄膜晶粒较为粗大.随着膜厚的增加,薄膜的晶粒尺寸明显增大,不同衬底上生长的二氧化钒薄膜晶粒都具有一种独特的"纺锤"形或"棒"形.
关键词:
氧化钒薄膜
,
衬底
,
膜厚
,
微观结构
张立东
,
刘春海
,
孙化冬
,
张伟
功能材料
用多靶射频磁控溅射技术,在纯氩气氛中不同溅射功率（40～100W）下在Si（100）基底上制备晶体AlCrTaTiNi高熵合金薄膜。同时用四点探针（FPP）X射线衍射（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）及其附带的能谱分析仪对薄膜的电性能和微结构进行表征。分析结果表明AlCrTaTiNi高熵合金薄膜在溅射功率为80W时的晶粒尺寸最大,电阻率最低,为160μΩ.cm左右。同时截面SEM形貌显示形成的晶体并非柱状晶体。
关键词:
高熵合金
,
晶粒尺寸
,
溅射功率
,
膜厚
付文博
,
梁建华
,
王维笃
,
周晓松
,
杨本福
,
程贵均
表面技术
目的 研究台阶的形貌对台阶仪测试的影响,准确测试薄膜的厚度.方法 分析制备台阶中存在的问题,针对这些问题设计了中轴线位置带掩膜条的掩膜板,并采用该新型掩膜板,在不同衬底上制备台阶,用台阶仪对薄膜的厚度进行测定.结果 在薄膜中轴线附近做出的台阶,坡度陡峭,上下表面清晰.Mo衬底上制备出的薄膜厚度重复性较好;单晶硅衬底上制备的薄膜表面粗糙度较大;石英衬底上制备薄膜形成的台阶上下表面均较为平滑.结论 使用新型掩膜板在石英衬底上制备出理想台阶,可较为准确地测试薄膜的厚度.
关键词:
薄膜
,
膜厚
,
边缘效应
,
理想台阶
,
粗糙度
牛宗伟
,
李明哲
电镀与涂饰
利用正交试验法获得的TC4钛合金微弧氧化实验数据建立了基于4-11-1(即4个输入神经元,11个隐含层节点,1个输出神经元)结构的BP神经网络预测膜层厚度的模型,并引入遗传算法(GA)对其权值和阈值进行优化.以微弧氧化工艺参数中的电流密度、脉冲频率、占空比和氧化时间作为网络的输入向量,氧化膜层厚度作为网络的输出向量,对比和分析了BP与GA-BP模型的预测结果.与BP网络模型相比,GA-BP网络模型稳定性能较好,并能高精度预测膜层的厚度,GA-BP网络模型预测值的平均误差为0.015,最大误差仅为0.036,而BP模型预测结果的平均误差为0.064,最大误差为0.099.
关键词:
钛合金
,
微弧氧化
,
膜厚
,
预测
,
神经网络
,
遗传算法
袁玉珍
,
王辉
,
张化福
,
刘汉法
,
刘云燕
人工晶体学报
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜.用XRD和SEM分析和观察了薄膜样品的组织结构和表面形貌.研究表明:制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.另外还研究了薄膜的结构、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系.当薄膜厚度为843 nm时,电阻率具有最小值1.18×10~(-3) Ω·cm,在可见光区(500～800 nm)平均透过率超过93%.
关键词:
磁控溅射
,
Zr,Al共掺杂ZnO
,
膜厚
,
透明导电薄膜
王雷
,
袁琳
,
许育东
,
石敏
,
齐三
,
丁宁
金属功能材料
doi:10.13228/j.boyuan.issn 1005-8192.2015017
以碳钢为研究对象,采用正交试验方法探究了一种基于普通磷化液的电解磷化工艺参数.并采用磷化膜外观、厚度、硫酸铜点滴时间等手段对磷化膜的成膜性能和耐腐蚀性能进行表征和评价.结果表明,在电解时间60s,总酸110点,温度20℃,电流密度0.4 A/dm2的条件下,形成具有厚度一致、耐腐蚀性能优越的膜层.通过SEM与XRD对磷化膜进行微观表征,得出此磷化膜是颗粒状分布均匀且由Zn3 (PO4)2·4H2O单相构成.这种磷化方法可制备出成膜速度快、抗腐蚀性能优良的磷化膜,且磷化液无沉渣、无有毒离子,是一种高效环保磷化处理方法.
关键词:
电解磷化
,
膜厚
,
正交试验
,
极化曲线
张蕾
,
沙响玲
,
张念
,
田野
,
王龙伟
,
杨燕
,
吕宝鹏
腐蚀与防护
doi:10.11973/fsyfh-201510016
以湿式电除尘极板为载体,导电防腐蚀涂料为试验原料,探寻湿式电除尘在运行过程中出现的极板腐蚀问题以及针对湿式电除尘器导电防腐蚀涂料的性能,研究涂料在不同厚度、不同涂刷次数、不同烘干时间下对涂膜硬度、附着力、电阻率等特性的影响;以及涂膜的耐酸、耐碱、耐盐和耐水性.通过理论分析及试验研究,确定涂料的防腐蚀性能参数和最佳涂抹方式.结果表明,除尘极板导电防腐蚀涂料最佳涂抹方式为涂膜的厚度不低于0.14 mm,最佳涂刷次数为3次,涂膜烘干温度为60℃,烘干时间为12 h.
关键词:
电除尘
,
导电防腐蚀涂料
,
理化性能
,
漆膜厚度
,
涂刷工艺
