Xinhua LI
,
Kai QIU
,
Fei ZHONG
,
Zhijun YIN
,
Changjian JI
,
Yuqi WANG
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材料科学技术（英文）
The preparation of porous structure on the molecular beam epitaxy (MBE)-grown mixed-polarity GaN epilayers was reported by using the wet chemical etching method. The effect of this porous structure on the residual stress of subsequent-growth GaN epilayers was studied by Raman and photoluminescence (PL) spectrum. Substantial decrease in the biaxial stresse can be achieved by employing the porous buffers in the hydride vapour phase epitaxy (HVPE) epilayer growth.
关键词:
GaN
,
vapour
,
phase
,
epitaxy
彭观良
,
邹军
,
庄漪
,
张涟翰
,
周国清
,
周圣明
,
徐军
,
干福熹
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2005.02.018
由于与GaN晶格失配小(约1.4%),γ-LiAlO2单晶有望成为一种很有希望的CaN外延衬底材料.本文使用提拉法生长出了尺寸达φ45×50mm3的γ-LiAlO2单晶.对该晶体毛坯的各个有代表性的位置作了X射线粉末衍射(XRPD)分析,结果表明仅仅在晶体毛坯的底部生成了一种缺锂相(LiAl5O8).γ-LiAlO2晶体化学稳定性差,在室温时轻微水解.当在空气中于1100℃退火70h,γ-LiAlO2晶体挥发出锂组分,在表面产生缺锂相(LiAl5O8).值得注意的是,在γ-LiAlO2晶体的红外光谱区不存在氢氧根吸收带.
关键词:
晶体生长
,
提拉法
,
γ-LiAlO2
,
外延
,
GaN
,
衬底
,
红外
杨祥龙
,
杨昆
,
陈秀芳
,
彭燕
,
胡小波
,
徐现刚
,
李赟
,
赵志飞
人工晶体学报
采用物理气相传输法在(0001)面偏向<11-20>方向4°的籽晶上生长了掺氮低电阻率碳化硅(SiC)单晶.结合碳化硅邻位面生长机制,通过优化温场设计,在近平温场下生长出了晶型稳定、微管密度低、高结晶质量的低电阻率4H-SiC单晶.在加工的“epi-ready”SiC衬底上进行了同质外延,获得了光滑的外延层表面.利用该外延材料研制了600V/10 A SiC肖特基二极管,器件的直流性能与进口衬底结果相当,反向漏电成品率高达67％.另外研制了600 V/50 A SiC肖特基二极管,器件的直流性能也达到了进口衬底水平.
关键词:
碳化硅
,
物理气相传输
,
外延
,
肖特基二极管
凌世婷
,
佘广为
,
穆丽璇
,
师文生
影像科学与光化学
doi:10.7517/j.issn.1674-0475.2013.06.440
采用一种简单的热蒸发法制备了高度有序的ZnO-SnO2异质外延枝状纳米结构.制备过程分两步进行:首先,在氧化铝片基底上制备SnO2纳米线;然后,以此SnO2纳米线为模板在其上生长ZnO纳米线.用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射(XRD)等手段对产物的形貌、结构进行了表征.XRD表征结果证实第一步和第二步生长的产物分别为SnO2和ZnO.SEM观察结果表明,第一步热蒸发得到直径约100 nm、长度达几十微米的SnO2纳米线,第二步热蒸发后得到以第一步SnO2纳米线为主干、沿四个方向有序排列的枝状ZnO纳米结构.TEM观察结果表明,ZnO枝状纳米线沿[001]方向由SnO2纳米线(-101)晶面外延生长.所制备的枝状纳米结构由于具有巨大的比表面积,且外延异质结可以促进电荷的分离和快速转移,因此非常适合于光催化应用.该ZnO-SnO2异质外延枝状纳米结构用于光催化降解甲基橙,表现出优异的性能.
关键词:
异质结
,
枝状纳米结构
,
外延
,
光催化
季振国
,
娄垚
,
毛启楠
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00386
沉积参数对MOCVD法生长的Al_xGa_(1-x)N薄膜性能有很大的影响.利用高分辨XRD,紫外-可见透射光谱,原子力显微镜,扫描电子显微镜和荧光光谱研究了沉积温度对低压MOCVD沉积的高Al含量的Al_xGa_(1-x)N外延膜缺陷密度以及发光性能的影响.结果发现,随着沉积温度的升高,Al_xGa_(1-x)N薄膜中的螺型位错密度减少,但是刃型位错密度增加,因此简单地改变沉积温度并不能降低总的位错密度以及提高薄膜的发光性能.进一步地分析测试结果表明,随着沉积温度的升高,Al_xGa_(1-x)N薄膜内的Al含量增加,导致禁带宽度增大和发光波长的蓝移,因此适当提高沉积温度(1000～1050℃)是获得高Al含量Al_xGa_(1-x)N薄膜的一种有效手段,但是过高的沉积温度(>1100℃)不利于提高薄膜的发光强度.
关键词:
AlGaN
,
高铝含量
,
MOCVD
,
外延
,
沉积温度
