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高气压高功率条件下MPCVD法制备金刚石单晶

史玉芬 , 周学芹 , 李坤 , 刘小利

人工晶体学报

利用自主研发的圆柱谐振腔式MPCVD设备,在工作气压28 kPa,微波功率5 kW的条件下成功制备金刚石单晶,并采用光学显微镜、激光拉曼谱(Raman)技术对样品进行表征.结果表明,在高气压高功率条件下单晶的沉积速率高达26 μm/h,且表面形貌平整.

关键词: 金刚石单晶 , 沉积速率 , MPCVD