张伟
,
杜克勤
,
严川伟
,
王福会
腐蚀学报（英文）
为筛选出最佳的含硅电解液配方,配制了4种不同的含钙、磷、硅的电解液;对比研究了不同溶液中,等离子火花放电现象以及所制备PEO陶瓷膜的厚度、微观形貌、元素及相组成.结果表明,在4种电解液中,溶液D中制备的氧化膜生长速度较快,且膜层表观均匀光滑;该氧化膜表面孔隙率较高且微孔大小均匀一致;在膜层D中均具有较高的生物活性元素钙、磷、硅.因此,溶液D成为制备含硅生物活性PEO陶瓷膜的最佳电解液配方.
关键词:
纯钛
,
PEO
,
ceramic film
,
bioactivity
张伟
,
杜克勤
,
严川伟
,
王福会
腐蚀学报（英文）
利用电化学阻抗谱原位监测浸泡在人体模拟液(SBF)中生物活性PEO陶瓷膜表面上羟基磷灰石(HA)的形核和生长过程,评价PEO陶瓷膜的体外生物活性.结果表明,在SBF模拟液中浸泡7 d后,含硅PEO陶瓷膜阻抗谱的高频段出现一个新的时间常数；同时,最外层氧化膜电阻值显著增加,说明HA晶粒在膜层表面形核并快速生长；基准PEO陶瓷膜在SBF模拟液中浸泡18 d后,最外层电阻值才有上升趋势,而且增长速度非常缓慢.含硅PEO陶瓷膜中CaSiO3和SiO2为羟基磷灰石的沉积提供了更多的异质形核点,因此大大提高其生物活性.
关键词:
纯钛
,
PEO
,
ceramic film
,
EIS
,
bioactivity
黄本生
,
刘阁
,
江仲英
,
尹文峰
,
薛屺
稀有金属材料与工程
利用低压化学气相沉积技术(LPCVD),在钻杆接头表面制取Ti、Cr、A1的氮化物、碳化物和氧化物构成的金属陶瓷膜层.陶瓷膜的特性通过SEM、EDS和XRD分析.结合性能和腐蚀性能分别通过划痕试验和腐蚀实验测试.结果表明:陶瓷膜层致密而均匀,膜厚度在15 μm左右,且在膜层与基体之间还形成了一层厚5μm左右的过渡层.陶瓷复膜与基体材料结合性能良好,具有较好的致密性,不存在裂纹气孔等缺陷.陶瓷膜层有效阻隔了有害原子或离子与基体钢的接触,防止材料发生氢鼓泡、氢致开裂等,大大提高了钻杆接头材料的抗腐蚀性能.
关键词:
低压化学气相沉积技术(LPCVD)
,
陶瓷薄膜
,
耐磨性能
,
抗腐蚀性能
孙佳
,
覃礼钊
,
张旭
,
吴正龙
,
王浩琦
,
程南璞
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2014.21.025
离子束改性技术在先进陶瓷材料方面的应用效果突出.在阐述离子束改性原理的基础上,综述了该技术在先进陶瓷薄膜材料微观结构与组织,力学性能和摩擦学性能方面的应用.离子束改性是一种高能高效的掺杂改性手段,在辅助制备高质量薄膜、改善薄膜力学和摩擦力学方面有着显著的优势.深入了解离子束与薄膜原子的作用机制,精确调配薄膜的微观结构和组成,降低成膜质量的不确定性,是未来离子束改性先进陶瓷薄膜的研究重点.
关键词:
离子束改性
,
先进陶瓷
,
陶瓷薄膜
,
结构
,
力学性能
吴显平
,
周海晖
,
张景玲
,
黄鹏程
,
旷亚非
电镀与涂饰
在氢氧化钠、硼酸盐、硅酸盐及有机胺的混合溶液中,用普通交流电对AZ91D镁合金进行电解氧化.研究了溶液组成、氧化电压、温度和时间等对镁合金电解氧化的影响.最佳工艺条件为:30 g/L NaOH,25 g/L Na_2B_4O_7,50 g/L Na_2SiO_3,40mL,L三乙醇胺,交流电压130～160V,时间10min.在最佳工艺条件下,镁合金表面形成了一层致密光滑的类陶瓷膜层,该膜层具有良好的耐蚀性能.
关键词:
镁合金
,
交流电
,
电解氧化
,
陶瓷膜
张伟
,
杜克勤
,
严川伟
,
王福会
腐蚀学报（英文）
为筛选出最佳的含硅电解液配方,配制了4种不同的含钙、磷、硅的电解液;对比研究了不同溶液中,等离子火花放电现象以及所制备PEO陶瓷膜的厚度、微观形貌、元素及相组成.结果表明,在4种电解液中,溶液D中制备的氧化膜生长速度较快,且膜层表观均匀光滑;该氧化膜表面孔隙率较高且微孔大小均匀一致;在膜层D中均具有较高的生物活性元素钙、磷、硅.因此,溶液D成为制备含硅生物活性PEO陶瓷膜的最佳电解液配方.
关键词:
纯钛
,
PEO
,
陶瓷膜
,
生物活性
鲁闯
,
谢发勤
,
朱利萍
兵器材料科学与工程
采用正交试验法优化Al-Si合金硅酸盐体系微弧氧化电解液中钨酸钠、柠檬酸三钠、甘油浓度及电源脉冲频率、占空比、电流密度等工艺参数,研究工艺参数对膜层性能的影响.结果表明:微弧氧化最佳工艺参数为钨酸钠2 g/L、柠檬酸三钠2g/L、甘油4 g/L、频率800 Hz、占空比30％、电流密度16.6～20 A/dm2;氧化膜主要由莫来石(mullite,3A12O3·2SiO2)、α-Al2O3、γ-Al2O3相组成;莫来石含量较高,其中的硅元素主要来自铝合金基体.
关键词:
Al-Si合金
,
微弧氧化
,
陶瓷层
,
工艺参数
,
相成分
