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磁控溅射CrAlCN涂层的结构与性能研究?

郭盛 , 熊计 , 赵海波 , 杜昊 , 鲜广

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.07.016

采用离子化增强磁控溅射设备在硬质合金(YG8)基体表面沉积CrAlCN 涂层，通过控制碳靶电流的大小，从而改变涂层中的碳含量。沉积后的涂层进行了纳米硬度、扫描电镜、X射线衍射、电子能谱和洛氏硬度结合力检测。随着碳靶电流的升高，涂层中的碳含量呈线性上升，涂层由晶态逐渐转变为非晶态，当涂层中的碳含量达到某个临界值时，超过临界值的碳以脆性非晶态继续沉积在涂层表面，其硬度低，韧性差，导致涂层的结合力与硬度下降。

关键词: CrAlCN涂层 , 磁控溅射 , 硬质合金基体 , 碳靶 , 结合力

双靶反应共溅射制备WC薄膜及其电催化性能

李春梅 , 唐振方

人工晶体学报

以金属钨靶和石墨靶反应共溅射的方法,在硅片上制备碳化钨薄膜.实验探究了功率和衬底温度对薄膜成分、质量的影响.研究表明,衬底温度为400℃时,薄膜生长致密、均匀,无裂痕;当钨靶功率为55 W,逐渐增大石墨靶功率时,薄膜成分分别为W、W2C、WC1-x.经电化学研究发现W2C、WC1-x两种薄膜均对甲醇有电催化作用,且有很高的比表面积,面积为1 cm2的W2C、WC1-x薄膜电极对应的比表面积分别为33.32 cm2和64.68 cm2.

关键词: 双靶共溅射 , 溅射功率 , 石墨靶 , 电催化

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