李红凯
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林国强
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董闯
,
闻立时
金属学报
用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持脉冲偏压一致和工作气压恒定的条件下, 控制不同氮流量
在硬质合金基体上制备了不同氮含量的CNx薄膜. 用SEM, GIXRD, XPS, 激光Raman谱和纳米压
入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能. 结果表明, 随着氮流量的增加, 薄膜中氮
含量先是线性增加然后趋于平缓, 薄膜呈非晶结构且为类金刚石薄膜, 其硬度与弹性模量随着氮含量
增加先增加后下降, 在x=0.081时出现最大值, 分别为32.1 GPa和411.8
GPa. 分析表明, 通过氮含量
的改变而使sp3键含量发生改变是影响薄膜性能变化的重要因素.
关键词:
氮化碳薄膜
,
pulsed bias
,
arc ion plating
,
microstructure
,
properties
