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电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究

宗广霞 , 彭晓

腐蚀科学与防护技术

采用电弧法分别在高低两种H2分压下制备了Cr纳米粉(标记为CrI和CrII. 在电解液中浸泡过的两种Cr纳米粉的XPS分析结果表明, CrII纳米粉表面在电解液中形成的Cr2O3膜比CrI薄. 电化学分析表明, CrII纳米粉表面更易吸附Cl-, 导致其更容易与Ni共电沉积, 这是因为表面氧化膜较薄的CrII粉, 氧化膜可被表面吸附的Cl-点蚀而穿透, 导电性增强, 使得Ni2+更容易在其表面上还原, 快速将CrII嵌入共电沉积层中.

关键词: Cr纳米粉 , electrochemical analysis , codeposition , arc plasma

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