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掺氮类金刚石薄膜的微观结构和电导特性

张伟丽 , 夏义本 , 居建华 , 王林军 , 方志军

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.014

用射频等离子体化学气相沉积法（RFCVD）和CH4、N2与Ar组成的混合气体制备掺氮类 金刚石薄膜（a－C:H:N）。用原子力显微镜（AFM），俄歇电子能谱（AES），红外光谱（IR）以及显 微拉曼谱（Micro－Raman）对a－C:H:N薄膜的表面形貌、组分和微观结构进行了表征。实验结 果表明，薄膜中有纳米量级的颗粒存在，而且随反应气体中N2与CH4比值的增大，薄膜中氮元 素的含量也随之增大，并主要以C－N键和N－H键形式存在，少量以C≡N键形式存在。还研 究了热退火对a－C:H:N薄膜的电导率的影响。

关键词: 微观结构 , a－C:H:N薄膜 , 电导特性