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相变光盘介电层ZnS-SiO₂薄膜的性能研究

刘波 , 阮昊 , 干福熹

无机材料学报

利用AFM、XRD、TEM、紫外可见光谱仪和椭偏仪等多种研究手段研究了ZnS-SiO₂薄膜的性能.研究表明,沉积态ZnS-SiO₂薄膜为非晶态,表现为层核生长型(Straski-Krastanov型)结构,表面很平滑,其中包含着大小为2-10nm的微小晶粒;ZnS-SiO₂薄膜的透过率比较大,消光系数很小,这可以减少入射激光能量的损失;ZnS-SiO₂薄膜拥有比较高的折射率,能够对记录层起到很好的保护作用.

关键词: ZnS-SiO₂ , dielectric layer , phase-change optical disk

相变光盘介电层ZnS-SiO2薄膜的性能研究

刘波 , 阮昊 , 干福熹

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2003.01.030

利用AFM、XRD、TEM、紫外可见光谱仪和椭偏仪等多种研究手段研究了ZnS-SiO2薄膜的性能.研究表明,沉积态ZnS-SiO2薄膜为非晶态,表现为层核生长型(Straski-Krastanov型)结构,表面很平滑,其中包含着大小为2～10nm的微小晶粒;ZnS-SiO2薄膜的透过率比较大,消光系数很小,这可以减少入射激光能量的损失;ZnS-SiO2薄膜拥有比较高的折射率,能够对记录层起到很好的保护作用.

关键词: ZnS-SiO2 , 介电层 , 相变光盘

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