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溅射气压对硼掺杂ZnO薄膜光电特性的影响

化麒麟 , 杨培志 , 杨雯 , 付蕊 , 邓双 , 彭柳军

人工晶体学报

采用脉冲磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了ZnO∶B薄膜,利用霍尔测试仪和紫外-可见光-近红外分光光度计及逐点无约束最优化法,研究了溅射气压(0.1 ~3 Pa)对ZnO薄膜的光学和电学特性的影响.结果表明:ZnO∶B薄膜在可见光区域内的平均透光率高于80%,近红外波段的透过率及薄膜的电阻率与溅射气压成正比;折射率n随溅射气压降低呈下降趋势,其值介于1.92 ~2.09之间;在较低的溅射气压下(PAr=0.1 Pa)获得的薄膜电阻率最小(3.7×10-3Ω·cm),且对应着小的光学带隙(Eg=3.463 eV).

关键词: 磁控溅射 , ZnO∶B薄膜 , 溅射气压 , 透过率 , 电阻率 , 折射率

溅射时间对硼掺杂ZnO薄膜性能的影响

化麒麟 , 付蕊 , 杨雯 , 杨培志

材料导报

采用脉冲磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了硼掺杂氧化锌(ZnO∶B)薄膜,利用X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、紫外-可见光-近红外分光光度计和四探针测试仪研究了溅射时间与薄膜的结构、光学和电学特性的关系.结果表明:ZnO∶B是多晶薄膜,具有六方钎锌矿结构且呈c轴择优取向,其透明导电性能优良,在可见光谱范围的平均透先率超过80%,薄膜电阻率随溅射时间延长而降低至3.0×10-3 Ω·cm.

关键词: ZnO∶B薄膜 , 溅射时间 , 光电特性 , 透光率

“类金字塔”状ZnO改善硅异质结电池近红外波段外量子效率

王宁 , 王奉友 , 张晓丹 , 王利果 , 郝秋艳 , 刘彩池 , 赵颖

人工晶体学报

因晶体硅是间接带隙半导体材料,其较低的吸收系数限制了对近红外波段入射光的吸收.为此,引入金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术制备的ZnO薄膜,并通过改变掺杂流量和沉积时间调节ZnO∶ B(BZO)薄膜的光学和电学性能.将BZO薄膜用于硅异质结(SHJ)太阳电池的背反射电极,相比于传统结构,电池的反射率和外部量子效率在近红外波段得到显著改善.为进一步解释外量子效率增加的原因,在四甲基氢氧化铵(TMAH)湿法制绒的硅衬底上沉积BZO薄膜,得到了新型微纳米嵌套结构,并对其光吸收进行了测试分析.

关键词: ZnO∶B薄膜 , 金属有机化学气相沉积 , 外量子效率 , 异质结太阳电池

衬底温度对硼掺杂ZnO薄膜微观结构及其光电特性的影响

王何美 , 朱华 , 冯晓炜 , 况慧芸 , 王艳香

人工晶体学报

采用射频磁控溅射技术,改变玻璃衬底温度制备B掺杂ZnO薄膜,薄膜的微结构及其光电性能分别用X-射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、四探针测试仪及粗糙度测试仪进行表征.结果表明:ZnO∶B薄膜样品表面平整,具有六角纤锌矿结构并呈C轴择优取向.所有薄膜样品在420 ~ 900 nm区间内的平均透光率大于91%.随着温度的增加,电阻率先减小后增大,但晶粒尺寸一直变大.衬底温度为100℃时电阻率可低至1.14×10-3Ω·cm,所有样品禁带宽度相对于本征ZnO蓝移.

关键词: ZnO∶B薄膜 , 磁控溅射 , 光电特性

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