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衬底和氧分压对Cu掺杂ZnO薄膜的结构及光学特性的影响

陶亚明 , 马书懿 , 陈海霞 , 孟军霞 , 侯丽莉 , 贾迎飞 , 尚小荣

功能材料

采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅(100)衬底上制备了不同氧分压的Cu掺杂ZnO(ZnO:Cu)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致荧光发光(PL)等表征技术,研究了衬底和氧分压对ZnO:Cu薄膜的结晶性能和光学特性的影响.结果显示薄膜沉积在Si衬底上比玻璃衬底上有更好c轴择优取向,两种衬底上沉积的薄膜有相同的氧分压结晶规律,且在氧氩比为10:10时,薄膜c轴取向同时达到最好.通过对光致发光的研究表明,在低氧环境时玻璃衬底较容易制得好的发光薄膜,可在富氧环境时Si衬底上制得的薄膜发光性能较好.

关键词: ZnO:Cu薄膜 , 磁控溅射 , 衬底 , 氧分压 , 光学特性

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