陈瀚
,
邓宏
材料导报
采用Sol-gel法使用旋转涂覆技术在Si(100)基片上生长了ZnO:Cd薄膜.XRD结果表明:ZnO:Cd薄膜具有与ZnO一样的六角纤锌矿结构,随热处理温度的升高,(002)衍射峰强度逐增,FWHM减小,并沿c轴择优取向生长;透射光谱实验表明:以石英为基底,适度掺镉可降低薄膜的禁带宽度Eg,特别是在800℃、8%Cd条件下,Eg=2.80eV,与纯ZnO的禁带宽度3.30eV相比,明显降低了光学禁带;光致发光谱(PL)实验表明:在吸收边附近均有较强的紫外发射峰,且随热处理温度升高呈规律的变化;电阻率测定表明:掺镉使薄膜导电性增强.
关键词:
ZnO:Cd薄膜
,
光致发光
,
Sol-gel法
,
旋涂
陈瀚
,
倪勇
,
彭军
材料开发与应用
doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2011.03.009
本文以载玻片、石英为基底,采用控制掺杂方法,制备了ZnO:Cd薄膜,通过热处理方法获得了优良性能的ZnO:Cd薄膜.研究分析了镉浓度为2%-10%时ZnO薄膜的透射光谱.结果表明,有较强的紫外发射峰,但没有深能级发射,未出现其它的发射峰,说明ZnO:Cd薄膜在紫外线区的发射占主导地位,表明带间跃迁占主导地位.
关键词:
ZnO:Cd薄膜
,
透射光谱
,
光学性能
