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利用直流磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO: Zr新型透明导电薄膜

张化福 , 类成新 , 刘汉法 , 袁长坤

人工晶体学报

室温下利用直流磁控溅射法在有ZnO缓冲层的柔性衬底 PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO: Zr)透明导电薄膜,研究了厚度对ZnO: Zr薄膜结构及光电性能的影响.结果表明,ZnO: Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜.实验获得ZnO: Zr薄膜的最小电阻率为2.4×10-3 Ω·cm,其霍尔迁移率为18.9 cm2·V-1·s-1 ,载流子浓度为2.3×1020 cm-3.实验制备的ZnO: Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光平均透过率超过92%.

关键词: ZnO∶Zr薄膜 , 柔性衬底 , 直流磁控溅射 , 透明导电薄膜

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