马瑾
,
黄树来
,
计峰
,
余旭浒
,
王玉恒
,
马洪磊
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.019
采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出Zn-Sn-O透明导电薄膜.制备薄膜为非晶结构,并且具有很好的稳定性,与玻璃衬底具有良好的附着性.薄膜主要是依靠膜中的氧空位导电,薄膜的电阻率强烈地依赖溅射气体中的氧分压.制备薄膜的最低电阻率为2.27×10-3 Ω·cm,在可见光范围内的平均透过率达超过90%.
关键词:
透明导电膜
,
Zn-Sn-O
,
射频磁控溅射
