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基于磁控溅射技术的ZAO透明导电薄膜及靶材的研究

肖华 , 王华 , 任鸣放

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2006.02.012

阐述用磁控溅射技术制备综合性能优良的ZAO透明导电薄膜及其靶材的发展现状和趋势.介绍了透明导电薄膜的基本性能及其存在的问题,进而重点阐述了ZAO薄膜的组织结构、导电机制和透光特性.由于其优良的光电特性(用掺杂Al2O3质量分数达3 %的溅射靶材可制备电阻率达4.7×10-4 Ω·cm、透射率超过90 %的ZAO薄膜)而具有广泛的应用前景.并针对靶材的制备和利用磁控溅射技术制备ZAO透明导电薄膜过程中存在的问题及发展方向进行了分析讨论.

关键词: 磁控溅射 , ZAO透明导电薄膜 , 溅射靶材 , 光电特性