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超音速等离子喷涂FeCrBSi涂层组织和残余应力分析

王召煜 , 李国禄 , 王海斗 , 刘金海 , 徐滨士 , 康嘉杰

材料热处理学报

采用超音速等离子喷涂技术制备了FeCrBSi涂层,利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和纳米压痕仪等研究了涂层的微观组织和力学性能。采用X射线应力仪对不同厚度及不同温度退火后涂层的表面残余应力进行测试。结果表明涂层表面的残余应力为拉应力,且随着涂层厚度的增加而增加;对试样进行退火处理可以有效地缓和涂层表面的残余应力,随着温度的升高涂层表面的残余应力不断降低,到260℃左右变为压应力;压应力值随着退火温度的升高而变大,但当温度升高到大约400℃以上时,保持在80MPa左右。

关键词: 超音速等离子喷涂 , 残余应力分析 , 涂层组织 , 等离子喷涂技术 , 扫描电子显微镜 , X射线衍射仪 , 表面残余应力 , X射线应力仪

多种进口含铜物料的固体废物鉴别方法

郝雅琼

冶金分析 doi:10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.009936

通过对3个进口含铜物料的固体废物鉴别,得到了进口含铜物料的固体废物鉴别方法,即含铜物料的固体废物鉴别通常包括3步:第1步,确定物料的自然属性,包括利用肉眼进行外观和杂质观察;利用X射线荧光光谱(XRF )进行半定量分析,确认物料的主要成分及其质量分数;利用X射线衍射仪(X RD )和矿相显微镜进行物相组成分析,得到物料的主要物相组成;对于极细粉末类含铜物料,还需要利用扫描电子显微镜(SEM )分析物料的微观形态和粒度分布。第2步,确定物料的产生来源,具体是指根据物料的外观特征和试验结果,通过资料对比、实地调研、专家咨询的方法,判断出物料的产生工艺,最终明确该物料是否有意识生产等信息。第3步,确定物料的固体废物属性,即根据《固体废物鉴别导则》(试行)得出物料的固体废物鉴别结论。在此所鉴别的3个含铜物料固体废物鉴别结论分别是铜冶炼过程中产生的铜渣、含铜电镀污泥、废黄杂铜冶炼中渣/烟灰/二级泥渣的混合物料,均属于我国禁止进口的固体废物。实验研究为进口含铜物料的固体废物鉴别和监管提供参考,对将铜渣、铜电镀污泥、含铜渣/灰/泥混合物料等固体废物堵在国门之外具有重要意义。

关键词: 铜渣 , 含铜电镀污泥 , 废黄杂铜冶炼中渣/烟灰/二级泥渣的混合物料 , 固体废物 , 鉴别方法 , X射线荧光光谱 , X射线衍射仪 , 矿相显微镜 , 扫描电子显微镜

气压和偏流对高掺硼金刚石晶体性质的影响

贾福超 , 白亦真 , 屈芳 , 孙剑 , 赵纪军 , 姜辛

新型炭材料 doi:10.1016/S1872-5805(09)60039-1

采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜.利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征.结果显示:当气体压强从3kPa降低到1. 5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善.但是继续降气体压强,从1.5kPa到 0.5kPa时,却呈现出相反的趋势.固定气体压强(1. 5kPa),改变偏流,结果表明:适当的偏流(3A)可以改善掺硼金刚石的质量,偏流较高会导致薄膜中非金刚石相增多.

关键词: 高掺硼金刚石膜 , 气体压强 , 偏流 , 热灯丝化学气相沉积 , 扫描电镜 , X射线衍射仪 , 拉曼光谱

新型X射线衍射仪

朱桂兰 , 何崇智

钢铁研究学报

简要介绍了德国布鲁克AXS公司新产品D8系列X射线衍射仪的特点、实验方法的分析软件及其应用.该系列仪器具有超前的技术,卓越的品质,可为物质微观结构的分析和前沿研究工作提供有效的解决方案.

关键词: X射线衍射仪

水泥生料高温双固硫体系与SO2释放

嵇鹰 , 周静 , 杨康 , 徐德龙

硅酸盐通报

水泥生料含有大量CaCO3和SiO2、Al2O3、Fe2O3、MgO等矿物,理论上是性能优良的复合固硫剂.利用“反相萃取分离法”分离硅酸盐矿物相,借助XRD和TG-FTIR对不同硫含量生料在煅烧过程中复合高温固硫体系作用机理和升温过程中SO2释放情况进行了探讨.结果表明,水泥生料高温固硫分为两个体系:1150~1400℃温度区间CaO-Al2O3-CaSO4铝相固硫体系起主导作用;1400~1450℃区间CaO-Al2O3-Fe2O3-CaSO4铁铝酸盐相固硫体系起主导作用;两者的固硫效果不尽相同,前者是非稳态固硫在温度升高至1400℃左右会再次释放出大量SO2,后者属于稳态固硫,最终将硫固化在熟料当中.

关键词: 水泥生料 , 高温双固硫体系 , X射线衍射仪 , 热重-红外联用仪

碳化硅颗粒表面磁控溅射镀铜膜的研究

俞晓正 , 沈志刚 , 徐政

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2008.03.008

采用直流磁控溅射方法,在SiC颗粒表面成功地沉积了金属铜膜.利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)和电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)等测试仪器对其表面形貌和组份进行了表征.重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪(XRD)对其进行了表征.结果表明,溅射镀膜时,通过控制SiC颗粒的运动方式,可以在其表面镀上均匀、连续和致密的金属膜.溅射时间越长或溅射功率越大或温度越高,都有利于薄膜结晶.

关键词: 磁控溅射 , 金属膜 , 碳化硅 , X射线衍射仪

磁控溅射法沉积纳米Cu薄膜的性能研究?

郭俊婷 , 徐阳

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2015.05.024

采用卷绕型磁控溅射设备在涤纶(PET)针刺毡表面沉积了纳米结构 Cu 薄膜,利用 X 射线衍射仪(XRD)对薄膜的组分和结晶状态进行了分析,用原子力显微镜(AFM)分析了不同溅射工艺参数对纳米Cu薄膜微观结构和颗粒直径的影响,并较为系统地分析了溅射功率、工作气压和沉积时间对镀铜PET针刺毡导电性能的影响。结果表明,增大溅射功率,镀铜PET针刺毡导电性和 Cu 膜均匀性变好,但应控制在6 kW以下;随工作气压的增大,薄膜方块电阻先减小后增大,薄膜厚度更加均匀;随着沉积时间的延长,Cu粒子的直径增大,Cu膜的导电性和均匀性明显变好。

关键词: 卷绕型磁控溅射 , 纳米结构Cu薄膜 , X射线衍射仪 , 原子力显微镜(AFM) , 导电性能

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