魏孔芳
,
王志光
,
孙建荣
,
臧航
,
姚存峰
,
盛彦斌
,
马艺准
,
缑洁
,
卢子伟
,
申铁龙
,
杨成绍
原子核物理评论
采用磁控溅射技术在Si衬底上沉积Si/[Fe(10 nm)/Nb(4 nm)/Fe(4 nm)/Nb(4 nm)]_2/[Fe(4nm)/Nb(4 nm)]_4多层膜.用2 MeV的Xe离子在室温下辐照多层膜.采用俄歇深度剖析、X射线衍射和振动样品磁强计分析辐照引起的多层膜元素分布、结构及磁性变化.AES深度剖析谱显示当辐照注量达到1.0×10~(14) ions/cm~2时,多层膜界面两侧元素开始混合;当辐照注量达到2.0×10~(16) ions/cm~2时,多层膜层状结构消失,Fe层与Nb层几乎完全混合.XRD谱显示,当辐照注量达到1.0×10~(14) ions/cm~2时,Nb的衍射峰和Fe的各衍射峰的峰位相对于标准卡片向小角方向偏移,这说明辐照引起Nb基和Fe基FeNb固溶体相的形成;当辐照注量大于1.0×10~(15) ions/cm~2时,辐照引起非晶相的出现.VSM测试显示,多层膜的磁性随着结构的变化而变化.在此实验基础上,对离子辐照引起界面混合现象的机理进行了探讨.
关键词:
离子辐照
,
Fe/Nb多层膜
,
AES深度剖面分析
,
XRD
,
VSM
陈强
,
王新庆
,
葛洪良
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.03.006
利用化学镀的方法制备了CoWP磁性薄膜.研究了施镀时间对化学镀CoWP薄膜矫顽力和饱和磁化强度的影响,并利用场发射扫描电子显微镜(FSEM)、X射线衍射(XRD)和振动样品磁强计(VSM)研究了CoWP磁性薄膜的表面形貌、成分、微结构及磁学性能.结果表明,化学镀CoWP薄膜主要为hcp结构Co相,晶粒大小为2～3 μm;随着施镀时间的增加,CoWP薄膜的饱和磁化强度也随之增大,最高达到122 emu/g;CoWP薄膜的矫顽力都在250 Oe以下.通过计算Kelly-Hankel(δM)曲线,证实了CoWP磁性薄膜中存在交换耦合作用,产生了剩磁增强效应.
关键词:
CoWP薄膜
,
化学镀
,
FSEM
,
XRD
,
VSM
,
磁性
,
hcp结构
,
饱和磁化强度
,
交换耦合
彭东阳
,
吴萍
,
杜洪明
,
姜恩永
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.06.021
用化学共沉淀法和在NH3/H2气氛下氮化处理得到了一系列不同Ni含量的Fe-Ni-N多晶粉末.XRD测试的结果表明,随着Ni含量的增加,材料的晶格常数逐渐减小;制备出单相的γ'-(Fe1-xNix)4N条件主要与NH3/H2气流比、热处理温度及时间有关.从VSM测量的结果来看,随着Ni含量的增加,材料的饱和磁化强度(Ms)总体呈下降趋势.Ni含量在0.18-0.28之间较容易得到单相γ'-(Fe1-xNix)4N,并且磁性质比较稳定.通过研究不同Ni含量对磁性的影响,进一步分析了Ni的占位问题.
关键词:
化学共沉淀法
,
VSM
,
γ
,
-(Fe1-xNix)4N
王爱华
,
刘旭焱
,
卢成
,
张萍
,
宋金璠
,
姬晓旭
人工晶体学报
采用电化学和湿化学法结合的两步化学法制备了Co掺杂的ZnO薄膜.X射线衍射(XRD)结果表明Co掺杂没有改变ZnO薄膜的六角纤锌矿结构.扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEN)结果表明薄膜是由ZnO单晶纳米棒组成.X射线光电子能谱(XPS)结果表明Co2替代了Zn2+,实现了有效的掺杂.磁性测量的结果表明,样品在室温下的磁性表现为顺磁性和铁磁性的结合.
关键词:
Co掺杂ZnO薄膜
,
磁性
,
XPS
,
VSM
