薛增辉
,
李伟
,
刘平
,
马凤仓
,
刘新宽
,
陈小红
,
何代华
无机材料学报
doi:10.15541/jim20140022
采用TiSi复合靶与V靶,用射频磁控溅射工艺在TiSiN纳米复合膜中插入不同厚度的VN纳米层,采用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究了VN插入层厚度对TiSiN纳米复合膜的微观结构和力学性能的影响.结果表明:当TiSiN纳米复合膜中插入VN纳米层厚度较小时,薄膜由纳米复合结构转变成纳米多层结构,薄膜硬度降低.继续增加VN层厚度,薄膜硬度随之升高,在VN沉积层厚为0.5 nm时薄膜出现连续贯穿多层纳米层、结晶度良好的柱状晶,TiSiN层与VN层呈共格外延生长的结构,薄膜硬度达到37.2 GPa.随着VN层厚的继续增加,薄膜的共格外延生长结构消失,硬度下降.
关键词:
TiSiN纳米复合膜
,
VN插入层
,
微观结构
,
力学性能
