廖益传
,
吕学超
,
张鹏程
,
任大鹏
,
郎定木
稀有金属
开展了不同温度、压力和时间条件下微米厚A1片和微米厚U片的真空热压扩散连接实验,并对界面层进行了显微结构分析、元素能谱分析和纳米压痕测试.获得了U-Al机械结合无扩散层的工艺参数:350℃/63 MPa/1 h.保温lh条件下,U-Al扩散层均匀化的工艺参数为400℃/80 MPa,扩散均匀情况下扩散层成分主要是UAl2.
关键词:
U
,
Al
,
扩散连接
,
真空热压
刘天伟
,
王小英
,
江帆
,
朱生发
,
唐凯
,
魏强
稀有金属材料与工程
利用非平衡多靶溅射沉积法在不同脉冲偏压、沉积速率下制备了Ti-Nb-Ni薄膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和电化学极化试验分析了薄膜结构和抗腐蚀性能.结果表明,在0V偏压下,当Ti:Nb:Ni沉积速率比为3:1.5:1.5时,为晶化薄膜:而当Ti沉积速率的控制电流在5~7 A范围内,Nb、Ni沉积速率不变时,为非晶薄膜.对于沉积速率比为5:1.5:1.5的薄膜,当偏压从0 V增加到-2000 V时,薄膜组织的演化过程为非晶-弥散小晶粒-致密小晶粒-大颗粒晶粒.电化学极化试验表明,利用非晶化和晶化复合工艺获得的Ti-Nb-Ni薄膜具有更好的耐腐蚀性能.
关键词:
U
,
Ti-Nb-Ni
,
非晶薄膜
,
结构
,
电化学极化
伏晓国
,
刘柯钊
,
汪小琳
,
柏朝茂
,
赵正平
,
蒋春丽
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2001.06.004
采用X射线光电子能谱(XPS)分析研究了298 K时O2在金属U和U Nb合金清洁表面的原位吸附过程,作为对照还研究了在纯Nb表面的吸附.吸附各阶段XPS图谱的变化揭示了O2在U,Nb和U-Nb合金表面的吸附将导致UO2,NbO和Nb2O5等多种产物形成定量分析表明,O2在U和U-Nb合金表面的饱和吸附量大约分别为45 L和40 L(1 L=L33x10-4Pa@s),而O2在金属Nb上的饱和吸附量仅约为10 L.
关键词:
O2
,
U
,
U-Nb合金
,
表面吸附
,
X射线光电子谱
