王艳
稀有金属材料与工程
选用Ti6Al4V合金作为基体材料,并对其进行N+注入以及非平衡磁控溅射TiN膜制得两种改性试样,借助Phillips X'Pert型X射线衍射仪、扫描电子显微镜(SEM)及台阶仪等表征试样及考察改性层的冲击磨损行为,研究认为:在反复冲击载荷作用下,两试样均出现了疲劳磨损现象,但N+注入试样的磨损机制主要是点蚀及疲劳剥落；而TiN膜的磨损机制主要是剥层失效并伴有一定的磨粒磨损；试样的抗冲击磨损性能受多因素制约,如膜层硬度,膜-基结合强度、膜层韧性等.
关键词:
N+注入
,
非平衡磁控溅射
,
TiN膜
,
冲击磨损
,
磨损行为
王钧石
,
柳襄怀
,
黄楠
,
孙宏
,
王良辉
材料开发与应用
doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2003.05.005
本文采用一种新型的等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积的技术(PIII-IBAD),在Cr12MoV钢基体上制备出了TiN膜,对沉积膜的组织进行了光电子能谱分析,并对沉积膜进行了硬度检测、摩擦试验及磨痕形貌分析.试验结果表明,沉积膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3,TiN膜具有高达Hv3200的高硬度和极其优良的摩擦性能.
关键词:
等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积(PIII-IBAD)
,
TiN膜
,
显微硬度
,
摩擦性能
李金龙
,
孙明仁
,
马欣新
,
唐光泽
,
金银玉
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2007.01.010
采用Ti、N等离子体基离子注入和先在基体表面沉积纯钛层然后离子注氮混合两种方法在铝合金基体上制备了TiN膜.利用XPS分析了两种方法制备TiN薄膜的成分深度分布和元素化学价态,并用力学性能显微探针测试对比了TiN膜的纳米硬度.研究表明:两种方法制备的薄膜均由TiN组成,Ti、N等离子体基离子注入薄膜中Ti/N≈1.1,而离子注入混合薄膜中Ti/N≈1.3,Ti、N等离子体基离子注入薄膜表面区域为TiN和TiO2的混合组织,TiN含量多于TiO2,离子注入混合薄膜表面主要是TiO2;Ti、N等离子体基离子注入所制备的薄膜的纳米硬度峰值为12.26 GPa,高于离子注入混合的7.98 GPa.
关键词:
等离子体基离子注入
,
TiN膜
,
XPS
,
成分深度分布
,
元素化学价态
,
纳米硬度
吕树国
,
刘常升
,
李玉海
,
张罡
,
毕监智
,
金光
材料保护
电弧离子镀膜层中"大颗粒"的存在,降低了膜层质量,限制了其进一步应用.采用俄罗斯UVN 0.5D2I离子束辅助沉积电弧离子镀设备,对高速钢W18Cr4V上沉积的TiN膜层进行了氮离子束轰击.结果表明:TiN膜层表面"大颗粒"完全消失,凹坑浅而平整,粗糙度降低.膜层中较软的Ti和Ti2N向TiN转变,TiN(111)取向逐渐减弱,而(200)取向逐渐增强.膜层的显微硬度由原来的1 980 HV1N升高到2 310HV1N.
关键词:
氮离子束
,
轰击
,
电弧离子镀
,
TiN膜
,
显微硬度
段良涛
,
张东明
,
郭路
,
王再义
中国有色金属学报
为了增强钛金属双极板的耐腐蚀性能,通过多弧离子镀膜技术在钛基双极板表面镀一层TiN,对薄膜的表面形貌,晶体结构与耐腐蚀性能之间的关系进行研究.结果表明:镀有TiN膜样品的耐腐蚀性能比未镀膜样品的有明显提高,其腐蚀电流密度最低可达201 μA/cm2.测试其动电位极化曲线和恒电位极化曲线发现,样品的耐腐蚀性能与薄膜的晶体结构以及表面颗粒和孔洞有密切的关系.适当的晶体择优取向有利于提高样品的耐腐蚀性能,而表面的颗粒和孔洞对样品的长期耐腐蚀性有很大影响.通过能谱分析发现,腐蚀后的样品表面发生了氧化.
关键词:
质子交换膜燃料电池
,
钛基双极板
,
多弧离子镀
,
耐腐蚀性
,
TiN膜
李忠厚
,
马芹芹
,
杨迪
,
宫学博
,
郭腾腾
材料保护
为了提高软基体镁合金表面TiN膜的性能,对AZ31镁合金多孤离子预镀Ti后再镀TiN,并与直接镀TiN的膜层进行对比,研究了预镀Ti膜对TiN膜层结合力、耐磨、耐蚀等性能的影响.结果表明:预镀Ti膜使得镀TiN后膜层更致密,膜基结合力、耐磨性、耐蚀性都获得很大提高.
关键词:
多弧离子镀
,
预镀Ti膜
,
TiN膜
,
AZ31镁合金
,
耐磨性
,
耐蚀性
覃明
,
嵇宁
金属学报
利用等离子体辅助化学气相沉积法（PACVD）在60Mn钢基片上沉积2.5μm厚度的TiN膜.借助X射线应力分析技术和微拉伸设备,测量该附着膜纵向(加载方向)应力和横向应力及外载应变,进而求其等效应力等效单轴应变关系,并由此算得它的条件屈服点σ0.1和σ0.2分别为4.2和4.4GPa, 加工硬化指数为0.36.用纳米压痕仪测得其硬度为25GPa,弹性模量为420GPa. TiN 膜在拉伸过程中发生了塑性变形.
关键词:
TiN膜
,
null
,
null
李世直
,
徐翔
金属学报
采用直流等离子体化学气相沉积技术,在高速钢、Si(100)和Si(111)基体上沉积TiN膜,并对膜的晶体结构、表面形貌、断口结构、显微硬度、氯含量等进行了测定和分析,部分样品进行了二次离子质谱(SIMS)、Auger谱(AES)和X光光电子谱(ESCA)等分析.试验表明:在不同基材上沉积的TiN膜,只要沉积参数相同,膜的结构和性能都相同.在沉积温度500℃左右,TiN膜的生长方式有一转变,即可能是由层生长转变为岛状生长.直流PCVD法生成的TiN膜,其N:Ti≈1:1,有强的(200)织构,膜与基体间有较宽的共混区,因而结合强度高和耐磨性好,适于用作耐磨镀层.
关键词:
等离子体化学气相沉积
,
TiN film
