梁俊才
,
周武平
,
张凤戈
,
穆健刚
,
赵海波
稀有金属
doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.04.004
采用目前商用原子比为Ti50Al50的合金靶材,利用磁控溅射工艺,在硬质合金基体上沉积TiAl和TiAlN涂层.借助扫描电镜(SEM),X射线衍射仪(XRD)对Ti,Al元素在靶材和涂层中的存在形式作了分析,利用洛氏硬度试验机和纳米硬度仪对涂层的结合强度和硬度等力学性能做了测试分析.结果表明:Ti,...
关键词:
TiAl靶材
,
TiAlN涂层
,
磁控溅射
,
相结构
,
力学性能
