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直流磁控溅射法低温制备ZnO:Ti透明导电薄膜及特性研究

刘汉法 , 张化福 , 袁玉珍 , 袁长坤 , 类成新

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.06.010

利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺钛氧化锌(ZnO:Ti)透明导电薄膜.SEM和XRD研究结果表明,ZnO:Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向.厚度为437 nm薄膜的电阻率为1.73×10~(-4) Ω·cm.所制备薄膜具有良好的附着性能,薄膜样品在500~800 nm的可见光平均透过率都超过了91%.

关键词: ZnO:Ti薄膜 , 透明导电薄膜 , 磁控溅射 , 光电性能

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