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阳极氧化疏松钛膜制备高光催化活性的透明TiO2纳米多孔涂层

梁银 , 李朋 , 裴旺 , 段晋辉 , 黄峰 , 赵昆渝

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2016.07.017

采用磁控溅射法在玻璃基底上制备出一层特殊结构的Ti膜,该钛膜经过电化学阳极氧化和退火工艺处理,可直接在玻璃基底表面形成一层具有高光催化活性的透明TiO2纳米多孔涂层(简称TNP涂层)。利用XRD和SEM对TNP涂层的结构和形貌特征进行了表征。利用紫外可见分光光度计、接触角测试仪以及划痕测试仪对该涂层的透光率、浸润性、结合力进行了测试。最后,通过降解亚甲基蓝溶液对该涂层的光催化活性进行了评价。结果表明:制备的TNP涂层具有疏松多孔结构,退火后可形成锐钛矿相,透光率在可见光范围内达到80%以上,表面具有超亲水性(接触角< 6°),与玻璃基底间的结合力为2.9N;2h内对浓度为1×10-5mol/L的亚甲基蓝溶液降解率可达到94%,光催化反应速率常数为1.47h-1

关键词: Ti膜 , TiO2纳米多孔 , 透明 , 光催化 , 超亲水

磁控溅射中工作压强对钛膜沉积的影响

李丽 , 吴卫 , 金永中 , 于越

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.023

为了研究在磁控溅射工艺中溅射电流和溅射时间恒定的情况下,氩气工作压强的变化对钛膜在基底表面沉积的影响,通过用原子力显微镜分析钛膜的厚度和均方根粗糙度的方法来进行.结果表明:工作压强达到1.1Pa后, Ti膜的厚度及均方根粗糙度都随压强的增大而减小.由此说明,工作压强的变化对钛膜沉积有较大影响.

关键词: Ti膜 , 磁控溅射 , 工作压强 , 均方根粗糙度

磁控溅射中溅射电流对Ti薄膜膜基结合性能的影响

李丽 , 吴卫 , 张尧成

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.05.026

研究在磁控溅射工艺中工作压强和溅射时间恒定的情况下,溅射电流的变化对钛膜与基底Gd结合能力的影响.通过拉伸法测量薄膜与基体间的附着强度,利用扫描电镜观察Ti膜表面形貌.结果表明:溅射电流达到3 A时,Ti膜表面平整,与基体的结合力最强.由此说明,溅射电流的变化对钛膜与基底Gd结合能力的影响较大.

关键词: Ti膜 , 磁控溅射 , 溅射电流 , 附着强度

阳极氧化疏松钛膜制备高光催化活性的透明TiO2纳米多孔涂层

梁银 , 李朋 , 裴旺 , 段晋辉 , 黄峰 , 赵昆渝

材料工程 doi:10.11868/j.issn.1001-4381.2016.07.017

采用磁控溅射法在玻璃基底上制备出一层特殊结构的Ti膜,该钛膜经过电化学阳极氧化和退火工艺处理,可直接在玻璃基底表面形成一层具有高光催化活性的透明TiO2纳米多孔涂层(简称TNP涂层).利用XRD和SEM对TNP涂层的结构和形貌特征进行了表征.利用紫外可见分光光度计、接触角测试仪以及划痕测试仪对该涂层的透光率、浸润性、结合力进行了测试.最后,通过降解亚甲基蓝溶液对该涂层的光催化活性进行了评价.结果表明:制备的TNP涂层具有疏松多孔结构,退火后可形成锐钛矿相,透光率在可见光范围内达到80%以上,表面具有超亲水性(接触角<6°),与玻璃基底间的结合力为2.9N;2h内对浓度为1×10-5 mol/L的亚甲基蓝溶液降解率可达到94%,光催化反应速率常数为1.47h-1.

关键词: Ti膜 , TiO2纳米多孔 , 透明 , 光催化 , 超亲水

D+离子束辐照对Ti膜的影响

王博宇 , 向伟 , 谈效华 , 戴晶怡 , 程亮 , 秦秀波

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2010.00017

在加速器上,利用不同能量的D+离子束对Ti膜进行连续辐照,利用慢正电子湮没技术和SEM对束流辐照前后Ti膜进行表征.结果表明,D+离子束对Ti膜造成辐照损伤,随D+离子束能量增大,辐照损伤的程度加重;辐照损伤最大值在0.3μm处;D+离子束对Ti膜表面造成不同程度的烧蚀,随D+离子束能量增加,膜表面烧蚀程度增加,膜表面几何不均匀性导致膜表面出现选择性烧蚀.数值计算表明,随能量增加,D+离子在Ti膜中的能量沉积增大,这与SEM观测结果相符.

关键词: D+ , Ti膜 , 慢正电子湮没技术

D+离子束辐照对Ti膜的影响

王博宇向伟谈效华戴晶怡程亮秦秀波

金属学报 doi:10.3724/SP.J.1037.2010.00017

在加速器上, 利用不同能量的D+离子束对Ti膜进行连续辐照, 利用慢正电子湮没技术和SEM对束流辐照前后Ti膜进行表征. 结果表明, D+离子束对Ti膜造成辐照损伤, 随D+离子束能量增大, 辐照损伤的程度加重; 辐照损伤最大值在0.3 μm处; D+离子束对Ti膜表面造成不同程度的烧蚀, 随D+离子束能量增加, 膜表面烧蚀程度增加, 膜表面几何不均匀性导致膜表面出现选择性烧蚀. 数值计算表明, 随能量增加, D+离子在Ti膜中的能量沉积增大, 这与SEM观测结果相符.

关键词: D+ , Ti film , slow positron annihilation spectroscopy

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