马爱华
,
郑华
,
刘实
,
王隆保
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2005.01.011
采用磁控溅射方法制备了Ti膜及TiMo、TiMoYAl和TiZrYAl等三种合金膜.合金膜中Mo、Zr和Al三种元素成份与靶材成分基本一致,而Y元素则与靶材成分有较大的偏差.在400℃吸氢工艺下,四种膜材的吸氢动力学性能良好,没有脱膜现象,饱和吸氢量均可超过1.5(H/M).膜材的吸氢PCT曲线表明,含Mo合金膜材具有最高的吸氢平衡压,外推出的室温下的数量级约为10-4Pa.
关键词:
金属材料
,
磁控溅射
,
Ti合金薄膜
,
贮氢
