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Ti/IrO_2-Ta_2O_5氧化物阳极涂层厚度的X射线荧光法测定

张惠 , 许立坤 , 侯文涛 , 辛永磊 , 王均涛

材料保护

常规的光学显微镜和扫描电镜(SEM)检测为破坏性检测,且测量时间长,不便于现场应用于涂层厚度的测量.为此,制备了X射线荧光法(XRF)测量Ti/IrO_2-Ta_2O_5涂层厚度所需的校正标样,采用XRF测量了涂层的厚度,并与SEM测量的涂层厚度进行比较.结果表明:标样的涂层厚度和组分分布均匀;XRF测试中发射法比吸收法的灵敏度高,偏差小;XRF的测量结果与SEM的相近,偏差小,可靠度高.

关键词: X射线荧光 , IrO_2 , Ta_2O_5 , 氧化物阳极 , 厚度测量

Ta_2O_5薄膜制备的研究现状及进展

陈胜龙 , 杨建广 , 高亮

材料导报

Ta_2O_5薄膜具有很好的电学性能和光学性能,制备方法种类繁多,如溶胶-凝胶法(Sol-gel)、化学气相沉积法、电子束蒸发技术、溅射法、Ta层阳极氧化或热氧化法、离子辅助沉积法(IBAD)、原子层沉积法(ALD)等.评述了现有各种制备方法的优缺点,综述了Ta_2O_5薄膜各种方法制备的条件、薄膜的功能性质等,并评析了金属有机化合物为前驱体制备性能优良的Ta_2O_5薄膜的前景.

关键词: Ta_2O_5 , 薄膜 , 制备方法

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