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取向膜印刷精度的改善研究

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142905.0655

为了实现TFT LCD产品的窄边框化,分析了不同因素的影响程度,加强了对取向膜印刷精度的管控.同时对涉及该过程相关因素进行研究分析.对取向膜印刷精度相关的APR版收缩率、APR版固定夹具、APR版边缘角度、APR版边缘开口率进行优化测试,找到了可以控制取向膜印刷精度的方法.实验结果表明:通过对APR版收缩率进行优化后,可以明显改善PI EM的过程能力(Ppk 0.66→1.31);通过对APR版的夹具固定方式和挂版方式进行改善,边缘波动可以明显改善(边缘与中间Panel EM波动范围在477→138 μm);通过对APR版边缘300 μm的角度变更(75°→45°),边缘波动改善明显(63→43 μm);通过对APR版边缘300 μm的开口率优化(30％→35％),降低载液量,边缘波动得到进一步优化(43→22 μm).该方法可以满足取向膜印刷精度的稳定管控、适应窄边框等要求.

关键词: TFT LCD , 小尺寸 , 窄边框 , 取向膜印刷精度

高PPI产品下的取向膜画面品质改善研究

郑先锋 , 祝迎花 , 金婷婷 , 王平 , 方园 , 程晋燕 , 刘聪聪 , 金相旭 , 张建政

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20153004.0608

为了实现TFT LCD高PPI产品的高分辨率,高开口率,低功耗全面提升,分析了不同因素的影响程度,加强了对取向膜印刷品质的管控.同时对涉及该过程相关因素进行研究分析.对取向膜画面品质相关的产线印刷和干燥条件、APR版制作工艺、取向膜膜厚变化、APR版线数开口率进行优化测试,找到了可以提高取向膜画面品质的方法.实验结果表明:通过对取向膜印刷和干燥条件优化,确定了TN产品画面品质提升的产线管控方案;在APR版制作过程中引用扩散保护膜,ADS产品Particle类不良降低2％,Scratch类不良降低1％;对取向膜膜厚提升,ADS产品的段差和残像得到改善,对比度提升30～120,Zara Particle不良降低30％;通过对APR版的网点,开口率优化:400L,30％,普通曝光的APR版更新为600L,20％,高PPI有机膜类产品的Sand Mura发生率降低为0％.可以满足高PPI产品对取向膜印刷稳定的管控要求,适应高分辨率、高开口率、低功耗等要求.

关键词: TFT LCD , 高PPI , 取向膜

世界TFT LCD产业现状

杨柏梁

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2000.02.010

关键词: TFT LCD , 产业 , 现状 , 发展

基于HD66773的TFT OLED驱动电路的设计

杨虹 , 曹镛

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.01.007

介绍了用驱动TFT LCD的HD66773芯片驱动5 cm(2 in)TFT OLED的电路设计,通过对芯片做出合理的特殊设置,最终可以显示出8种颜色,达到初步点亮TFT OLED的目的,并给出了初始化软件流程和MCU接口.

关键词: TFT LCD , TFT OLED , HD66773 , 帧反转

液晶显示技术的最新进展

邵喜斌

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2000.03.001

液晶显示以其突出的优势成为平板显示领域的主导技术,在20世纪末的几年间迅速发展,以朝阳产业的势态跨入了21世纪.为使LCD产品具有更优异的性能,进入更多的应用领域,近十年来,相关技术的研究开发工作一直十分活跃,本文概要介绍了近两年围绕产品性能的提高和部分新技术的应用所进行的研究和开发工作取得的进展.

关键词: 液晶显示 , TFT LCD , 反射式彩色LCD

显示技术新进展

黄锡珉

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2000.01.001

叙述丁CRT、LCD、PDP、FED及OEL技术发展和趋势,在显示领域里TFT LCD的技术进步是最快的,例如;在6-7年时间里.分辨率由CGA(320×240)发展到UXGA(1 600 ×l 200);像素密度超过200dpi;用光学补偿膜或IPS、MVA、SAM等技术得到宽视角,克服了LCD显示视角窄的缺点;用低温多晶硅技术,把周边驱动电路集成到TFT LCD屏上等.最后描述了我国显示技术发展现状与前景.

关键词: 显示技术 , TFT LCD , 前景

HTM技术中细微图形成形效果的衍射理论分析与实验结果

郭建 , 金基用 , 林承武 , 明星 , 周伟峰 , 李斗熙

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2008.03.014

针对使用半色调掩膜技术的TFT LCD玻璃基板曝光过程中的衍射和干涉现象进行了分析.文中给出了衍射和干涉现象的理论模型,并且对这两种现象在HTM技术中所起的作用进行了解释,尤其针对不同的狭缝宽度和狭缝间距的结构进行了分析.给出了扫描电镜的图片做为进一步的说明.

关键词: 半色调掩膜 , 灰色调掩膜 , 薄膜晶体管液晶显示器 , 曝光 , 衍射

应用低介电材料丙烯酸酯树脂作为TFT-LCD的钝化层材料

周伟峰 , 薛建设 , 明星 , 刘翔 , 郭建 , 谢振宇 , 赵承潭 , 陈旭 , 闵泰烨

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20112601.0019

将具有低介电常数的丙烯酸酯树脂作为薄膜晶体管液晶显示器的钝化层整合到阵列基板中.与传统的SiN<,x>薄膜(ε≈7)相比,丙烯酸酯树脂钝化层具有平坦的表面,其低介电常数(ε≈4.5)可以降低器件的RC延迟,这都将有利于提高薄膜晶体管液晶显示器的开口率,从而提高显示器的亮度,降低能耗和制作成本.

关键词: 薄膜晶体管液晶显示器 , 低介电常数 , 丙烯酸酯树脂 , 钝化层

氮化硅在触摸屏中的应用分析

曲连杰 , 陈旭 , 郭建 , 闵泰烨 , 谢振宇 , 张文余

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20122704.0466

研究了氮化硅材料在触摸屏领域中的应用,利用等离子体化学气相沉积技术,在一定厚度的玻璃表面沉积不同厚度的氮化硅薄膜.通过理论分析和试验测试的方法得到了氮化硅膜层厚度和折射率对触摸屏透过率以及表面宏观颜色的影响.分析结果表明,氮化硅膜层折射率对触摸屏的平均透过率影响明显,而膜层厚度对触摸屏的平均透过率影响很小,但是膜层厚度的改变对触摸屏特定波长处透过率和膜层宏观颜色影响很明显.在实际生产中可以通过改变沉积条件获得合适折射率及厚度的氮化硅薄膜材料.

关键词: 薄膜晶体管液晶显示器 , 触摸屏 , 透过率 , 氮化硅

液晶模组ESD失效分析及防护研究

李卿硕 , 吴倩 , 王莎

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20132805.0711

研究了液晶模组结构与静电放电(ESD)路径间的关系,当液晶模组受ESD冲击电荷无法顺利导出,抗ESD能力仅有2 kV的Driver IC便成为最容易损坏的器件,IC失效会导致液晶模组无法正常工作.实验证明,当在ESD放电路径上特定位置增加静电保护装置,可将瞬间的电荷浪涌导入大地以提高液晶模组抗ESD的能力.论文探讨了一种在TFT基板增加静电环设计的方法可以代替FPC增加TVS管的现有模式.

关键词: 薄膜晶体管液晶显示器 , 静电放电 , 静电保护环 , 瞬变电压抑制二极管

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