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王大海 , 杨柏梁 , 杨柏梁 , 吴渊 , 吴渊 , 刘传珍
液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2000.04.004
利用磁控溅射的方法制备了Cr、 Ta、 Al、 Mo、 MoW等金属薄膜，采用XRD、 SEM、四探针法等分析手段分析了薄膜的性能。讨论了衬底温度、反应气压、溅射功率、气体流量等因素对薄膜质量的影响，得到了制作TFT器件中优质金属电极的工艺参数。
关键词: 磁控溅射 , TFT器件 , 溅射速率 , 金属薄膜
柳江虹 , 马凯
液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.1999.02.008
对TFT(Thin Film Transistor)的栅线及阵列缺陷的表现及成因进行了分析.在实际工艺过程中避免这些缺陷有利于提高器件成品率,改善显示质量.
关键词: TFT器件 , 阵列缺陷 , 刻蚀
柳江虹 , 袁剑峰 , 杨柏梁 , 梁庆成
液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.1999.01.006
对TFT器件工艺中的反应性离子刻蚀技术进行了研究,给出了TFT器件工艺中常见薄膜刻蚀速率的实验结果,并讨论了掺杂气体(如H2、Ar)对刻蚀速率的影响.
关键词: 反应性离子刻蚀 , 选择比 , TFT器件
