田轲
,
范希梅
,
张冯章
,
吴德志
,
周祚万
材料导报
采用化学水浴沉积法在T-ZnOw表面上沉积CdS纳米颗粒,用X射线衍射仪、扫描电镜和场发射表征样品的结构和形貌.并且在常温(25℃)下测试了CdS/T-ZnOw复合材料的光催化性能.结果表明,CdS/T-ZnOw复合材料的光催化性能直接受NH4Cl浓度的影响,可通过调控NH4Cl的浓度来调控CdS纳米颗粒的微观形貌.在0.74～2.99mmol/L范围内,CdS/T-ZnOw复合材料的光催化性能随NH4Cl浓度的增大而增大,在2.99～7.4mmol/L范围内,光催化性能随NH4Cl浓度的增大而减小.
关键词:
T-ZnOw
,
CdS
,
微观形貌
,
光催化性能
杜作娟
,
周丁
,
黄小忠
,
王超英
,
段曦东
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.06.017
采用化学包覆法,以氨水为沉淀剂,在碱性体系中制备了Fe(OH)3包覆T-ZnOw复合粉体,在600℃下通氢气还原获得了Fe/T-ZnOw包覆复合粉体.用XRD,SEM和EDX对粉体进行表征,结果表明:复合粉体存在金属铁相和T-ZnOw相,T-ZnOw四针保持完整,表面包覆完整,铁颗粒为球形,颗粒细小均匀,并T-ZnOw表层外有部分散落铁颗粒,颗粒粒径约为3 μm.用VSM分析测定粉体的磁饱和强度和矫顽力,分别为32.10 emu/g和140.5 Oe.
关键词:
复合粉体
,
化学包覆法
,
T-ZnOw
,
Fe
,
磁性能
常笑蕾
,
吴国峰
,
易锦
,
楚珑晟
材料导报
以四针状氧化锌晶须(T-ZnOw)为基体,采用共沉淀法,制备了T-ZnOw/Fe3O4复合物.通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)对复合物形貌和结构进行分析和表征,确定了制备T-ZnOw/Fe3O4复合物的最佳工艺条件.在该条件下制备的复合物由ZnO和Fe3O4晶体组成,且形貌完整,Fe3O4颗粒平均粒径在19.99nm左右.
关键词:
T-ZnOw
,
Fe3O4
,
共沉淀法
,
复合
,
吸波材料
田增彬
,
杜作娟
,
黄小忠
,
王超英
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2012.02.028
采用化学沉积法制备了电磁改性T-ZnOw样品,用XRD,SEM和EDX对样品进行表征.结果表明:样品存在六方晶系纤锌矿结构ZnO和立方晶系Fe两相,四针结构保持完整,晶须表层沉积了球形颗粒,颗粒粒径约为0.5μm,铁元素和锌元素的质量分数分别为63％,37％;电磁改性T-ZnOw磁饱和强度达到85.66emu/g,电阻率降低到6.9 Q·cm.
关键词:
电磁改性
,
化学沉积法
,
T-ZnOw
张虎
,
汪刘应
,
刘顾
,
葛超群
材料导报
四脚状氧化锌晶须(T-ZnOw)是目前发现的具有独特空间三维结构的晶须,并且其针部具有单晶性,由于其独特的晶体结构使得它在耐磨、减震、吸波等各个方面有着广阔的应用前景.阐述了T-ZnOw的晶体结构,介绍了氧化锌晶须的气-固(VS)和气液-固(VLS)生长机理,总结了其主要制备方法,如预处理氧化法、蒸气氧化法、平衡气量法、真空制备法和电化学沉积法等,并介绍了它的性能及其在增强复合材料、抗静电、抗菌和吸波方面的应用,总结展望了今后的研究方向.
关键词:
T-ZnOw
,
生长机理
,
制备方法
马泽宇
,
王晓亮
,
王翠梅
,
肖红领
,
杨翠柏
材料导报
从T-ZnOw独特的空间结构出发,建立了T-ZnOw高分子复合材料的新型三维点阵模型,利用Monte Carlo方法对该系统的逾渗导通行为进行了模拟,得到点阵逾渗阈值为23.2%.结合实际计算获得了T-ZnOw的临界掺入比例,与文献报道的结果基本吻合.计算表明临界掺入比例主要取决于T-ZnOw的长径比,并与晶须尺寸以及复合材料制备工艺有关
关键词:
T-ZnOw
,
逾渗
,
复合材料
曾桂生
,
邹建平
,
彭强
,
温珍海
,
李永佳
,
裴崇
功能材料
选用硅烷类偶联剂KH-570对T-ZnOw进行湿法表面化学改性.探讨了改性条件对改性效果的影响,并采用活化指数、接触角测定、红外光谱测定等手段对改性效果作了表征.结果表明,对T-ZnOw表面改性的最适宜的条件为:pH值为6,室温下水解1h,偶联剂用量为3%,在65℃偶联2h.采用改性方法和条件,可以取得满意的改性效果,改性后的T-ZnOw分散性得到了明显改善.
关键词:
四针状氧化锌晶须
,
偶联剂
,
表面改性
,
活化指数
