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Sn对PMN-PZT三元系压电陶瓷低温稳定性和压电性能影响的研究

谢军 , 田莳 , 徐永利 , 苏建华 , 杨岩

功能材料

制备了6种不同Sn含量的PMN-PZT压电陶瓷试样,深入研究了Sn添加剂对压电材料压电等性能的影响,用XPS分析了Sn在改性PZT压电陶瓷中的存在形式.研究表明,Sn添加剂不仅能提高压电性能而且改善了压电陶瓷低温性能的稳定性.

关键词: 改性PZT , Sn掺杂 , 压电陶瓷 , 低温稳定性

基于Sn掺杂Ge2Sb2Te5的相变存储器器件单元存储性能

徐成 , 刘波 , 冯高明 , 吴良才 , 宋志棠 , 封松林 ,

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2008.03.009

采用0.18μm标准工艺制备出基于Sn掺杂Ge2Sb2Te5相变材料的相变存储器器件单元,利用自行设计搭建的电学测试系统研究了其存储性能.结果表明:Sn的掺杂没有改变Ge2Sb2Te5的相变特性,其相变阚值电压和阈值电流分别为1.6V和25μA;实现了器件单元的非晶态(高阻)与晶态(低阻)之间的可逆相变过程;器件单元中相变材料结晶所需电流最低为1.78mA(电流宽度固定为100ns)、结晶时间大于80ns(电流高度固定为3mA);相变材料非晶化脉冲电流宽度为30ns时,所需电流大于3.3mA;与Ge2Sb2Te5相比,Sn的掺杂降低了SET操作的脉冲电流宽度,提高了结晶速度,有利于提高相变存储器的存储速度.

关键词: Sn掺杂 , Ge2Sb2Te5 , 相变存储器 , 器件单元 , 存储性能

不同烧结温度对SnO2掺杂下的Y1Ba2Cu3O7-δ超导电性的影响

石盼盼 , 孙爱民 , 马书懿 , 王丹 , 张明发

低温物理学报

采用固相反应法制作了在不同烧结温度对Sn掺杂下的YBCO一系列样品.本文采用了X-射线衍射仪,电阻测量和SEM对样品物相形成,微观结构,晶格常数以及超导转变温度进行表征,测量结果表明:不同的烧结温度会影响Sn离子的形式,随着温度的升高,Y-123峰明显减弱,杂峰相增多.本文分析了晶格常数与超导性存在必然联系,SEM结果表明第二相粒子的形成以及表面形貌都与温度有关.

关键词: YBCO超导 , Sn掺杂 , 微观结构 , 烧结温度(℃)

Sn掺杂Ge-Sb-Te相变薄膜的晶化特性

顾四朋 , 侯立松 , 赵启涛

材料研究学报 doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2004.02.013

用磁控溅射法制备了掺杂Sn的Ge2Sb2Te5相变材料薄膜,研究了Sn含量对结晶性能的影响.薄膜的X射线衍射(XRD)表明,热处理使薄膜发生了从非晶态到晶态的相变,并出现Sn-Te相.通过示差扫描量热(DSC)实验测出在不同加热速率下非晶态薄膜粉末的结晶峰温度,计算了材料的结晶活化能.根据结晶动力学分析和结晶活化能数据,掺杂Sn后的Ge-Sb-Te具有更高的结晶速率,用于光存储时将具有更高的擦除速度.

关键词: 无机非金属材料 , Ge2Sb2Te5 , Sn掺杂 , 热致相变 , 结晶活化能

Sn对Nd-Fe-B合金高温(423 K)磁后效和畴壁钉扎的影响

张正富 , 黄伯云 , 周科朝 , 左铁镛

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.02.018

研究了Nd-Dy-Fe-B和Nd-Dy-Fe-B-Sn合金在423 K的磁后效,发现两者的磁化强度都按时间对数衰减,Nd-Dy-Fe-B-Sn合金的磁后效起伏场Hf大于Nd-Dy-Fe-B合金.用Gaunt的畴壁钉扎理论分析该温度下两者的钉扎机制后发现,对于Nd-Dy-Fe-B-Sn合金,按畴壁强钉扎模型计算的钉扎密度与显微分析一致,因而,其反磁化过程在此温度下由畴壁强钉扎控制.而Nd-Dy-Fe-B合金的实验结果,与强钉扎模型计算结果不相符,进一步分析表明,Nd-Dy-Fe-B合金的磁化反转过程由局域化弱钉扎控制.

关键词: Nd-Fe-B磁体 , 磁后效 , Sn掺杂 , 畴壁钉扎

锡掺杂对ITO膜方阻和结构的影响

马颖 , 吕庆莉 , 张方辉 , 袁桃利 , 张麦丽

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2006.05.012

以铟、锡氯化物为前驱物,采用溶胶-凝胶法在玻璃基体上制备不同锡掺杂的ITO膜,在热处理温度为450 ℃条件下制备不同锡掺杂(质量分数11 %~33 %)的ITO膜,研究锡掺杂对ITO膜方阻和结构特性的影响.用四探针法测量ITO膜的方阻并对样品进行X射线衍射分析,结果表明:锡掺杂量在20 %时ITO膜的方阻最小,不同锡掺杂的ITO膜均为立方铁锰矿结构,锡掺杂会影响ITO膜晶粒尺寸、晶格常数和晶面取向等结构特性,ITO膜的晶粒较大、晶格畸变小、择优取向小时薄膜方阻较小.

关键词: ITO膜 , 溶胶-凝胶法 , Sn掺杂 , X射线衍射分析

Sn掺杂ZnO微晶的水热法制备及表征

董厚欢 , 刘宝 , 田芳 , 崔永奎

材料导报

采用水热法合成了具有不同形貌的Sn掺杂ZnO微晶.采用XRD、SEM、UV等分析手段对试样进行了表征.实验结果表明,随着Sn掺杂比例的增加,ZnO微晶的粒度增大,大的微晶达到500 nm,小的仅为100 nmm.大的ZnO微晶为六棱锥体,显露锥面P{10 (1)1},负极面O(000 (1)),并对其生长机理进行了探讨.

关键词: ZnO微晶 , 水热法 , Sn掺杂

Sn掺杂对ZnO压敏变阻器电学性能的影响

杨明珠 , 牟海维 , 吕树臣

硅酸盐通报

本文采用沉淀法以SnCl2·H2O代替SbCl3制备了ZnO压敏变阻器.分析了SnO2含量对变阻器电学性能的影响.随着SnO2含量的增加,漏电流和压敏电压明显增大;而非线性系数在SnO2掺杂量达到3.0 mol%时达到极大值.通过适当的掺杂,得到了漏电流为0.08 μA,非线性系数为80.3,压敏电压为1006.7 V1mA/mm性能良好的ZnO变阻器.

关键词: ZnO变阻器 , Sn掺杂 , 电性能

Sn掺杂BZT薄膜性能研究

邓小玲 , 蔡苇 , 符春林 , 陈刚 , 郭冬娇

功能材料

采用sol-gel法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了Sn掺杂Ba(Zr0.2 Ti0.8)O3 (BZT)薄膜.结果表明,掺锡的BZT薄膜为钙钛矿结构,当Sn掺量超过4%时,出现了第二相BaO;SEM观察发现掺锡BZT薄膜表面光滑平整,孔洞和裂纹较少;当Sn掺量达到8%时,BZT薄膜的介电常数达到最大值,而介电损耗最小;BZT薄膜的剩余极化强度为2.29μC/cm2,矫顽场强为10.36kV/cm.

关键词: BZT薄膜 , Sn掺杂 , 性能

Sn掺杂Ge--Sb--Te相变薄膜的晶化特性

顾四朋 , 侯立松 , 赵启涛

材料研究学报

用磁控溅射法制备了掺杂Sn的Ge2Sb2Te5相变材料薄膜,研究了Sn含量对结晶性能的影响. 薄膜的X射线衍射(XRD)表明,热处理使薄膜发生了从非晶态到晶态的相变, 并出现Sn-Te相.通过示差扫描量热(DSC)实验测出在不同加热速率下非晶态薄膜粉末的结晶峰温度,计算了材料的结晶活化能. 根据结晶动力学分析和结晶活化能数据,掺杂Sn后的Ge-Sb-Te具有更高的结晶速率,用于光存储时将具有更高的擦除速度.

关键词: 无机非金属材料 , Ge2Sb2Te5 , Sn-doping , thermal phase-change

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