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化学溶液沉积法制备涂层导体SmBiO3(SBO)缓冲层的研究

张欣 , 蒲明华 , 张红 , 雷鸣 , 张勇 , 赵勇

低温物理学报

通过740-820℃之间进行低温成相,分别在氩气和空气中LaAlO3(LAO)单晶基底上沉积得到了有较大应用前景的涂层导体SmBiO3(SBO)缓冲层.740-800℃所得的缓冲层c轴取向良好,致密、平整、无裂纹.当温度达到820℃时,SBO表面开始出现裂缝.SBO薄膜的相组成和微结构利用XRD和SEM进行分析.研究结果表明,在Ar气氛中和空气中适宜于SBO薄膜生长的最佳温度都在770-800℃附近,在此条件下可以制备出表面平整致密SBO薄膜.

关键词: 化学溶液沉积法 , 涂层导体 , SmBiO3缓冲层

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