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基底表面预氧化对SiO2/S复合涂层的影响

周建新 , 徐宏 , 张莉 , 刘京雷 , 戚学贵

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.05.033

为了减缓乙烯裂解炉管内表面的结焦,采用常压化学气相沉积方法,以二甲基二硫(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为先驱体,在预氧化的HP40合金试样上制备了SiO2/S复合涂层.分析了沉积温度、气体流速和沉积时间对涂层沉积速率的影响.利用扫描电镜、XPS和Raman光谱分别对涂层的形貌、成分和化学结构进行了表征,并对预氧化试样与涂层的结合进行了实验研究.结果表明,涂层主要由三节环Si-O-Si结构和Si-O-S结构组成,预氧化的试样涂层沉积速率是未氧化试样的2~3倍,试样氧化后涂层的抗热冲击性能和结合强度得到了提高.

关键词: 常压化学气相沉积 , SiO2/S复合涂层 , HP40合金 , 预氧化

用常压化学气相沉积法制备SiO2/S复合涂层的研究

周建新 , 徐宏 , 刘京雷 , 戚学贵

材料保护 doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2007.02.004

以二甲基二硫(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物,采用常压化学气相沉积法在HP40合金基体上成功制备了SiO2/S复合涂层.采用扫描电子显微镜(SEM)及其附带能谱仪(EDAX)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、Raman光谱等技术对涂层的形貌、元素成分、结构进行了表征,并对反应机理做了初步探讨.结果表明,SiO2/S复合涂层为无定形结构,主要由Si-O四面体的变形结构组成,S以S4及+4价状态与Si-O四面体的变形结构结合,涂层完整、致密.

关键词: 常压化学气相沉积(APCVD) , SiO2/S复合涂层 , HP40合金

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